ISO 23833:2013
(Main)Microbeam analysis - Electron probe microanalysis (EPMA) - Vocabulary
Microbeam analysis - Electron probe microanalysis (EPMA) - Vocabulary
ISO 23833:2013 defines terms used in the practices of electron probe microanalysis (EPMA). It covers both general and specific concepts classified according to their hierarchy in a systematic order. ISO 23833:2013 is applicable to all standardization documents relevant to the practices of EPMA. In addition, some parts of ISO 23833:2013 are applicable to those documents relevant to the practices of related fields (SEM, AEM, EDX, etc.) for definition of those terms common to them.
Analyse par microfaisceaux — Analyse par microsonde électronique (microsonde de Castaing) — Vocabulaire
L'ISO 23833:2013 définit des termes employés dans la pratique de l'analyse par microsonde électronique (microsonde de Castaing). Elle couvre à la fois des concepts généraux et des concepts spécifiques, classés selon le rang hiérarchique qu'ils occupent dans un ordre systématique. L'ISO 23833:2013 est applicable à tous les documents de normalisation relatifs à la pratique de l'EPMA. En outre, certaines parties de l'ISO 23833:2013 sont applicables aux documents relatifs à la pratique de techniques apparentées (MEB, AEM, EDX, etc.) pour la définition des termes communs à ces techniques.
General Information
- Status
- Published
- Publication Date
- 04-Apr-2013
- Technical Committee
- ISO/TC 202/SC 1 - Terminology
- Drafting Committee
- ISO/TC 202/SC 1 - Terminology
- Current Stage
- 9060 - Close of review
- Completion Date
- 04-Mar-2029
Relations
- Effective Date
- 31-Mar-2012
Overview
ISO 23833:2013 - "Microbeam analysis - Electron probe microanalysis (EPMA) - Vocabulary" defines and standardizes the terminology used in electron probe microanalysis (EPMA). The standard provides systematic, hierarchical definitions for general and specific concepts used in EPMA practice and is intended for use across EPMA-related standardization documents. Parts of ISO 23833:2013 also apply to related microbeam techniques (SEM, AEM, EDX/EDS, WDS/WDX) for terms common to those fields.
Key topics and requirements
ISO 23833:2013 establishes consistent definitions for terms that describe:
- EPMA concepts and modes: EPMA qualitative and EPMA quantitative (identification vs quantitative concentration assignment).
- Instrumentation: microprobe/microsonde, spectrometers (WDS/WDX, EDS/EDX) and positioning optics.
- Electron–matter interactions: elastic and inelastic scattering, backscattered electrons (BSE), secondary electrons (SE - conventionally < 50 eV), diffusion effects and scattering angles.
- X‑ray generation and types: characteristic X‑rays, continuous X‑rays (bremsstrahlung), generation mechanisms.
- Ionization and cross sections: ionization cross section, fluorescence yield (ω), ionization energy (thresholds), and the J‑value for average ionization energy.
- Absorption and attenuation: mass absorption coefficient, mass attenuation coefficient, absorption jumps, depth distribution function ϕ(ρz), and X‑ray emergence angle.
- Mathematical descriptors: stopping power (dE/ds), cross sections, and definitions for distributions (angular and depth). Requirements are primarily linguistic and definitional: provide unambiguous, internationally agreed vocabulary to ensure uniform interpretation across standards, publications, test reports and instrument specifications.
Applications and who uses this standard
ISO 23833:2013 is essential for:
- EPMA laboratory analysts and instrument operators - to write clear methods, reports and results.
- Instrument manufacturers and software developers - to label features, outputs and documentation consistently.
- Standards bodies and metrology institutes - to harmonize terminology in related standards and accreditation criteria.
- Materials scientists, geologists, metallurgists, semiconductor and ceramic engineers - who rely on EPMA data, inter‑laboratory comparisons and QA/QC.
- Academic and training programs - for teaching accepted EPMA vocabulary and reproducible methodology language. Practical benefits include improved clarity in specifications, reduced ambiguity in test methods, consistent metadata for datasets, and better communication between laboratories and vendors.
Related standards
ISO 23833:2013 cross‑references vocabulary standards such as ISO 18115‑1 (surface chemical analysis vocabulary) and is applicable alongside standards covering EPMA procedures, instrument performance, QA/QC and complementary techniques (SEM, AEM, EDX/EDS, WDS/WDX).
Keywords: ISO 23833:2013, EPMA vocabulary, electron probe microanalysis glossary, microbeam analysis terminology, X‑ray generation, backscattered electrons, ionization cross section, mass attenuation coefficient.
ISO 23833:2013 - Microbeam analysis -- Electron probe microanalysis (EPMA) -- Vocabulary
ISO 23833:2013 - Analyse par microfaisceaux -- Analyse par microsonde électronique (microsonde de Castaing) -- Vocabulaire
Frequently Asked Questions
ISO 23833:2013 is a standard published by the International Organization for Standardization (ISO). Its full title is "Microbeam analysis - Electron probe microanalysis (EPMA) - Vocabulary". This standard covers: ISO 23833:2013 defines terms used in the practices of electron probe microanalysis (EPMA). It covers both general and specific concepts classified according to their hierarchy in a systematic order. ISO 23833:2013 is applicable to all standardization documents relevant to the practices of EPMA. In addition, some parts of ISO 23833:2013 are applicable to those documents relevant to the practices of related fields (SEM, AEM, EDX, etc.) for definition of those terms common to them.
ISO 23833:2013 defines terms used in the practices of electron probe microanalysis (EPMA). It covers both general and specific concepts classified according to their hierarchy in a systematic order. ISO 23833:2013 is applicable to all standardization documents relevant to the practices of EPMA. In addition, some parts of ISO 23833:2013 are applicable to those documents relevant to the practices of related fields (SEM, AEM, EDX, etc.) for definition of those terms common to them.
ISO 23833:2013 is classified under the following ICS (International Classification for Standards) categories: 01.040.71 - Chemical technology (Vocabularies); 71.040.99 - Other standards related to analytical chemistry. The ICS classification helps identify the subject area and facilitates finding related standards.
ISO 23833:2013 has the following relationships with other standards: It is inter standard links to ISO 23833:2006. Understanding these relationships helps ensure you are using the most current and applicable version of the standard.
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Standards Content (Sample)
INTERNATIONAL ISO
STANDARD 23833
Second edition
2013-04-15
Microbeam analysis — Electron probe
microanalysis (EPMA) — Vocabulary
Analyse par microfaisceaux — Analyse par microsonde électronique
(microsonde de Castaing) — Vocabulaire
Reference number
©
ISO 2013
© ISO 2013
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Published in Switzerland
ii © ISO 2013 – All rights reserved
Contents Page
Foreword .iv
Introduction .v
1 Scope . 1
2 Abbreviated terms . 1
3 Definitions of general terms used in electron probe microanalysis .1
4 Definition of terms used to describe EPMA instrumentation . 7
5 Definitions of terms used in EPMA methodology .17
Bibliography .27
Foreword
ISO (the International Organization for Standardization) is a worldwide federation of national standards
bodies (ISO member bodies). The work of preparing International Standards is normally carried out
through ISO technical committees. Each member body interested in a subject for which a technical
committee has been established has the right to be represented on that committee. International
organizations, governmental and non-governmental, in liaison with ISO, also take part in the work.
ISO collaborates closely with the International Electrotechnical Commission (IEC) on all matters of
electrotechnical standardization.
International Standards are drafted in accordance with the rules given in the ISO/IEC Directives, Part 2.
The main task of technical committees is to prepare International Standards. Draft International
Standards adopted by the technical committees are circulated to the member bodies for voting.
Publication as an International Standard requires approval by at least 75 % of the member bodies
casting a vote.
Attention is drawn to the possibility that some of the elements of this document may be the subject of
patent rights. ISO shall not be held responsible for identifying any or all such patent rights.
ISO 23833 was prepared by Technical Committee ISO/TC 202, Microbeam analysis, Subcommittee
SC 1, Terminology.
The European Microbeam Analysis Society (EMAS) made contributions to the preparation of the document.
This second edition of ISO 23833 cancels and replaces the first edition (ISO 23833:2006), of which it
constitutes a minor revision.
This International Standard has a cross-reference relationship with the surface chemical analysis
vocabulary prepared by ISO/TC 201 (ISO 18115-1:2010).
iv © ISO 2013 – All rights reserved
Introduction
Electron probe X-ray microanalysis (EPMA) is a modern technique used to qualitatively determine and
quantitatively measure the elemental composition of solid materials, including metal alloys, ceramics,
glasses, minerals, polymers, powders, etc., on a spatial scale of approximately one micrometer laterally
and in depth. EPMA is based on the physical mechanism of electron-stimulated X-ray emission and X-ray
spectrometry.
As a major sub-field of microbeam analysis (MBA), the EPMA technique is widely applied in diverse
business sectors (high-tech industries, basic industries, metallurgy and geology, biology and medicine,
environmental protection, trade, etc.) and has a wide business environment for standardization.
Standardization of terminology in a technical field is one of the basic prerequisites for development of
standards on other aspects of that field.
This International Standard is relevant to the need for an EPMA vocabulary that contains consistent
definitions of terms as they are used in the practice of electron probe microanalysis by the international
scientific and engineering communities that employ the technique.
INTERNATIONAL STANDARD ISO 23833:2013(E)
Microbeam analysis — Electron probe microanalysis
(EPMA) — Vocabulary
1 Scope
This International Standard defines terms used in the practices of electron probe microanalysis (EPMA).
It covers both general and specific concepts classified according to their hierarchy in a systematic order.
This International Standard is applicable to all standardization documents relevant to the practices of
EPMA. In addition, some parts of this International Standard are applicable to those documents relevant
to the practices of related fields (SEM, AEM, EDX, etc.) for definition of those terms common to them.
2 Abbreviated terms
BSE backscattered electron
CRM certified reference material
EDS energy-dispersive spectrometer
EDX energy-dispersive X-ray spectrometry
EPMA electron probe microanalysis or electron probe microanalyser
eV electronvolt
keV kiloelectronvolt
RM reference material
SE secondary electron
SEM scanning electron microscope
WDS wavelength-dispersive spectrometer
WDX wavelength-dispersive X-ray spectrometry
3 Definitions of general terms used in electron probe microanalysis
3.1
electron probe microanalysis
EPMA
technique of spatially-resolved elemental analysis based upon electron-excited X-ray spectrometry with a
focussed electron probe and an electron interaction volume with micrometer to sub-micrometer dimensions
3.1.1
qualitative EPMA
procedure in EPMA leading to the identification of the elements present in the electron-excited
interaction volume by a systematic method for the recognition and assignment of X-ray spectral peaks
to specific elements
3.1.2
quantitative EPMA
procedure leading to the assignment of numerical values to represent the concentrations of elemental
constituents that had been previously identified in the electron-excited interaction volume during the
qualitative analysis phase in EPMA
Note 1 to entry: Quantitative analysis can be accomplished by comparing the unknown X-ray peak intensities
to X-ray peak intensities measured under the same conditions using reference material(s) or by calculating the
concentration from first principles (also known as standardless analysis).
3.2
electron probe microanalyser
instrument for carrying out electron-excited X-ray microanalysis
Note 1 to entry: This instrument is usually equipped with more than one wavelength spectrometer and an optical
microscope for precise specimen placement.
3.3
electron scattering
deviation in trajectory and/or kinetic energy suffered by an impinging energetic beam electron as a
result of an interaction with a specimen atom or electron
3.3.1
angle of scattering
scattering angle
angle between the direction of the incident particle or photon and the direction that the particle or
photon is traveling after scattering
[ISO 18115-1:2010]
3.3.2
backscattering
escape of beam electrons from the specimen following sufficient scattering events to cause the
trajectories to intersect the entrance surface of the specimen
3.3.2.1
backscatter coefficient
η
fraction of beam electrons that are backscattered, given by the equation
η = n(BS)/n(B)
where n(B) is the number of incident electrons and n(BS) is the number of backscattered electrons
3.3.2.2
backscattered electron
electron ejected from the entrance surface of the specimen by a backscattering process
3.3.2.3
backscattered electron angular distribution
distribution of backscattered electrons as a function of the angle relative to the surface normal
3.3.2.4
backscattered electron depth distribution
distribution of backscattered electrons as a function of the maximum depth into the specimen reached
before travelling back to the entrance surface to exit the specimen
2 © ISO 2013 – All rights reserved
3.3.3
continuous energy loss approximation
mathematical description of energy loss by fast electrons propagating through matter in which all of the
discrete inelastic processes are approximated as a single continuous energy loss process
Note 1 to entry: Also known as the continuous slowing-down approximation (CSDA).
3.3.4
elastic scattering
interaction of an energetic electron from the impinging beam and a specimen atom during which the
electron’s energy remains essentially unaltered but its trajectory is changed by an angle from 0 up to
π rad (180°) with an average of approximately 0,1 rad
3.3.5
inelastic scattering
interaction of an energetic electron from the impinging beam and a specimen atom or electron during
which kinetic energy is lost to the specimen by various mechanisms (secondary electron generation,
bremsstrahlung, inner shell ionization, plasmon and photon excitation)
Note 1 to entry: For inelastic scattering, the electron trajectory is modified by a small angle, generally less than 0,01 rad.
3.3.6
scattering cross-section
number of scattering events per unit area
mathematical description of the probability of a scattering event (elastic or inelastic)
Note 1 to entry: See ionization cross-section (3.4.4).
Note 2 to entry: Scattering cross-section is usually expressed simply as an area, in cm . The number of scattering
events per unit area is expressed in events/(atoms/cm ).
3.3.7
scattering effect
measurable physical phenomenon, such as electron backscattering or loss of X-ray generation, that
results from modification of the trajectory and/or kinetic energy of an impinging energetic beam
electron by scattering processes in the specimen
3.3.8
secondary electron
Electron emitted from the specimen as a result of inelastic scattering of the primary beam electron by
loosely bound valence-level electrons of the specimen
Note 1 to entry: Secondary electrons have conventionally an energy less than 50 eV.
3.4
X-ray
photon of electromagnetic radiation created by fluorescence of an inner shell electron vacancy or by
deceleration of an energetic electron in the Coulombic field of an atom
3.4.1
characteristic X-ray
photon of electromagnetic radiation created by the relaxation of an excited atomic state created by
inner shell ionization following inelastic scattering of an energetic electron or ion, or by absorption of
an X-ray photon
3.4.2
continuous X-ray
photon of electromagnetic radiation created by deceleration (an inelastic scattering mechanism) of an
energetic electron in the Coulombic field of an atom
3.4.3
fluorescence yield
ω
fraction of inner shell ionization events that give rise to characteristic X-ray emission during subsequent
de-excitation
Note 1 to entry: The fluorescence yield is independent of the method of ionization.
3.4.4
ionization cross-section
number of ionization events per unit area
mathematical description of the probability of ionizing an atom by removing an atomic electron from a
particular bound electron shell into the unbound vacuum, or continuum, energy level or state
Note 1 to entry: See scattering cross-section (3.3.6).
2 –24 2
Note 2 to entry: Ionization cross-section is usually expressed simply as an area, in cm or in barns (10 cm ).
Ionization event probability is expressed in events/(atoms/cm ).
Note 3 to entry: Ionization cross-section is usually denoted by Q, which is defined by the mathematical expression
dn = Q(Nρ/A)dx where dn is the number of ionization events which occur in each increment dx of electron path and
Nρ/A is the number of atoms per unit volume.
3.4.5
ionization energy
critical excitation energy
edge energy
minimum energy required to ionize an atomic electron, i.e. to remove a bound electron from a shell (K,
L, etc.) to (as a minimum) the continuum of energy states in a solid
Note 1 to entry: Ionization energy units are eV or keV.
3.4.6
J-value
mean ionization energy, a critical parameter in mathematical descriptions of the continuous energy loss
approximation
3.4.7
stopping power
dE/ds
rate of energy loss experienced by a primary electron (from all inelastic scattering processes) with
distance travelled in the specimen
Note 1 to entry: Stopping power is expressed as energy loss/unit distance (e.g. eV/nm).
3.4.8
X-ray fluorescence effect
secondary fluorescence
photoelectric absorption of an X-ray (characteristic or bremsstrahlung) by an atom, resulting in an
excited atomic state which will de-excite with electron shell transitions and subsequent emission of an
Auger electron or the characteristic X-ray of the absorbing atom
3.4.9
X-ray generation
generation of X-rays in the specimen under the stimulation of an incident beam of radiation (electrons,
ions or photons)
Note 1 to entry: X-rays can be generated through the ionization of inner atomic shells (characteristic X-rays) or
through the “braking radiation” (bremsstrahlung) process (continuum or white radiation).
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3.5
X-ray absorption
attenuation of the intensity of X-rays passing through matter, arising primarily from photoelectric
absorption for X-ray energies appropriate to EPMA
3.5.1
absorption edge
critical ionization energy for a particular shell or subshell of an atom species
Note 1 to entry: Absorption edges are detected in spectra as discontinuities in the X-ray continuum
(bremsstrahlung) background due to a sharp change in the X-ray mass absorption coefficient at the edge.
3.5.2
absorption factor
f(χ)
ratio of emitted X-ray intensity to the generated intensity in a specific direction towards the X-ray detector
3.5.3
depth distribution function
ϕ(ρz)
function which describes the distribution of generated X-rays as a function of depth below the
specimen surface
Note 1 to entry: ρz is expressed in units of density × thickness (depth).
3.5.4
jump ratio
ratio of the X-ray absorption coefficient at an energy just above an absorption edge to
that at an energy just below the edge
Note 1 to entry: X-ray absorption spectra can have complex shapes for X-ray energies in the vicinity of
photoionization thresholds, and a well-defined edge is not always observed at the threshold.
[ISO 18115-1:2010]
3.5.5
mass absorption coefficient
μ /ρ
l
material parameter that relates the loss of X-ray intensity due only to photoelectric absorption during
passage through matter, where μ is the linear absorption coefficient and ρ is the material density
l
Note 1 to entry: Its dimensions are area/mass (e.g. cm /g). It is sometimes referred to as the mass absorption
cross section.
3.5.6
mass attenuation coefficient
μ/ρ
material parameter that relates the loss of X-ray intensity due to all absorption and scattering processes
during passage through matter, given by the equation
I/I = exp[–(μ/ρ)ρs]
where I is the incident X-ray intensity, I is the intensity remaining after passage through a distance s of
the material, μ is the linear attenuation coefficient, ρ is the material density, s is the path thickness in cm
Note 1 to entry: Its dimensions are area/mass (e.g. cm /g). It is sometimes referred to as the mass attenuation
cross section.
3.5.7
mass-depth distance
ρz
description of a dimension in terms of the product of linear distance (cm) and density (g/cm )
Note 1 to entry: It is expressed in grams per square centimetre.
3.5.8
X-ray take-off angle
ψ
angle between the specimen surface and the central axis of the X-ray spectrometer
3.6
X-ray spectrum
plot of the X-ray photon abundance as a function of the energy or wavelength
Note 1 to entry: Most often, the number of photons/unit time is plotted, but other measures of the intensity are possible.
3.6.1
characteristic X-ray spectrum
X-ray peaks or lines associated with a particular atom species and generated as a result of inner shell
ionization (caused by an energetic electron, ion, or photon) followed by inter-shell electron transitions
and emission of excess energy as a photon of electromagnetic radiation
3.6.1.1
family of X-ray lines
systematic set of characteristic X-rays produced as a result of all possible routes of ionization of a
particular shell/subshell and the subsequent inter-shell electron transitions that occur
3.6.1.2
K-line
one of the characteristic line emissions following K-shell ionization
3.6.1.3
K-spectrum
series of characteristic X-rays arising from ionization of an electron bound in the K-shell of an atom
3.6.1.4
L-line
one of the characteristic line emissions following L-shell ionization
3.6.1.5
L-spectrum
series of characteristic X-rays arising from ionization of an electron bound in the L-shell of an atom
3.6.1.6
M-line
one of the characteristic line emissions following M-shell ionization
3.6.1.7
M-spectrum
series of characteristic X-rays arising from ionization of an electron bound in the M-shell of an atom
3.6.1.8
satellite line
low relative abundance feature near a characteristic peak that can result from any of a variety of
processes or situations: “forbidden” transitions, “non-diagram” lines and doubly-ionized atoms
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3.6.1.9
X-ray line table
table of fundamental parameters for qualitative analysis by EPMA
Note 1 to entry: The X-ray line table for qualitative analysis by EPMA contains the wavelengths (or energies) of K-,
L- and M-lines of the elements to be analyzed. It may also include their relative intensities, the full width at half
maximum (FWHM) of each peak, the names of the diffraction crystals used and their interplanar spacings, and
the wavelengths (or energies) of satellite lines.
3.6.2
continuous X-ray spectrum
continuum
bremsstrahlung
braking radiation
non-characteristic X-ray spectrum created by electron deceleration in the Coulombic field of an atom
and having an energy distribution from 0 up to the incident beam energy E (Duane-Hunt limit)
3.6.2.1
Duane-Hunt limit
beam energy
E
maximum photon energy found in the continuous X-ray spectrum corresponding to complete conversion
of an incident electron’s energy in a single event
3.6.2.2
Kramers’ law
experimental observation of the intensity of the X-ray continuum as a function of the incident electron
beam energy, the photon energy and the atomic number of the specimen
4 Definition of terms used to describe EPMA instrumentation
4.1
electron optics
system of electrostatic and electromagnetic lenses that make up the beam forming system
4.1.1
condenser lens
first demagnification lens, i.e. in a two-lens system the lens located immediately below the electron gun
Note 1 to entry: Its principal function is to define the current in the beam.
4.1.1.1
condenser lens aperture
fixed diaphragm with an axial opening that defines the angular transmission of the condenser lens
4.1.1.2
condenser lens current
externally-adjustable current flowing in the coil of the condenser lens which generates the magnetic
field that provides focussing action
4.1.2
demagnification
numerical value by which the diameter a beam exiting a lens is reduced in size, relative to the incident
diameter, by the focussing action
Note 1 to entry: Equal to p/q, where p is the distance from the object to the center of the lens, and q is the distance
from the image to the center of the lens
4.1.3
electron gun
source of electrons in EPMA, consisting of an emitter (heated tungsten or LaB filament, or cold or
thermally-assisted field emitter tip) and electrostatic extraction and accelerating optics
4.1.3.1
electron gun brightness
β
current per unit area per unit solid angle in the beam, given by the equation
2 2 2
β = 4I/(π d α )
where I is the current (A), d is the beam diameter (cm) and α is the beam divergence (rad)
4.1.3.2
electron gun current
beam current
current in the beam as it exits the final element of the electron gun assembly
4.1.4
objective lens
electron probe forming lens, i.e. in a two-lens system the lens located immediately above the specimen
and below the condenser lens
Note 1 to entry: The principal function of the lens is to focus the final probe.
4.1.4.1
objective lens aberration
any of various lens defects (spherical aberration, chromatic aberration, diffraction, etc.) that degrade
the focussed probe
4.1.4.2
objective lens aperture
diaphragm with an axial opening placed above the objective lens that defines the angular divergence of
the focussed beam and that reduces spherical aberrations
Note 1 to entry: Generally, a selection of apertures is provided on an externally adjustable slider.
4.1.4.3
objective lens current
externally-adjustable current flowing in the coil of the objective lens which generates the magnetic field
that provides focussing action
4.1.5
working distance
distance between the lower surface of the polepiece of the objective lens and the specimen surface
Note 1 to entry: In the past, this distance was defined as the distance between the principal plane of the objective
lens and the plane containing the specimen surface.
4.2
electron beam
〈electron optics〉 electron beam prior to focussing by the electron optical system onto the specimen
4.2.1
beam current
electron current contained within the electron beam
Note 1 to entry: See electron beam (4.2).
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4.2.1.1
beam current density
beam current normalized by the beam area
Note 1 to entry: It is expressed in amperes per square centimetre.
4.2.1.2
beam current stability
variation with time of the beam current
Note 1 to entry: See beam current (4.2.1).
4.2.1.3
beam diameter
diameter of the electron beam containing a specified fraction of the total current, for example 0,8
(80 %) of the total
Note 1 to entry: See electron beam (4.2).
Note 2 to entry: The beam diameter can be measured as the full peak width at half maximum (FWHM) of the beam
current across the diameter of the cross-section perpendicular to the beam.
4.2.2
Faraday cup
special target for capturing the incident beam current with negligible loss of current due to backscattering,
secondary electron emission, or photoemission
Note 1 to entry: The Faraday cup typically consists of a blind hole drilled into a carbon block covered with a metal
aperture with an opening of approximately 100 µm in diameter.
4.3
electron probe
〈electron optics〉 electron beam focussed by the electron optical system onto the specimen
Note 1 to entry: 〈instrumentation〉 See electron probe microanalyser (3.2).
Note 2 to entry: Typical beam diameters at the specimen plane range from nanometers to micrometers.
4.3.1
probe current
electron current contained within the electron probe
Note 1 to entry: See electron probe (4.3).
4.3.1.1
probe current density
probe current normalized by the probe area
Note 1 to entry: It is expressed in amperes per square centimetre.
4.3.1.2
probe current stability
variation with time of the probe current
4.3.2
probe diameter
diameter of the probe containing a specified fraction of the total current, for example 0,8 (80 %) of the total
Note 1 to entry: The probe diameter can be measured as the full peak width at half maximum (FWHM) of the
probe current across the diameter of the cross-section perpendicular to the probe.
4.3.3
specimen stage
component of an electron probe X-ray microanalyser that operates to translate the specimen, usually in
at least two dimensions (along x- and y-axes perpendicular to the beam)
Note 1 to entry: Movement in three dimensions (x-, y- and z-axes, where z- is parallel to the beam) and specimen
tilt and rotation may also be provided.
4.3.4
absorbed current
specimen current
current flowing between the conducting specimen and ground, representing the difference between
the beam current injected into the specimen and the current emitted as backscattered electrons and
secondary electrons
4.4
electron scanning image
scanning image
image constructed by moving an incident electron beam to discrete locations on a specimen, collecting
information generated therefrom (secondary electron signal, backscattered electron signal, X-rays, etc.)
and displaying this signal at a corresponding point in a visual display such as a cathode ray tube or
storing it as a numerical value at a computer memory location
4.4.1
area scanning
beam scanning action to cover a specific area of the specimen during the recording of an X-ray map
4.4.2
backscattered electron image
scanning electron beam image in which a signal is derived from a dedicated backscattered electron detector
(e.g. passive scintillator, solid-state diode, channel plate or negatively-biased Everhart-Thornley detector)
4.4.3
compositional mapping
X-ray mapping in which all significant corrections are performed at each picture element to produce a
map in which the quantitative concentration of an element is used to select the grey or colour scale for
the final display
4.4.4
dot mapping
form of display for X-ray maps in which the X-ray intensity is used to select a two-state display, off
(black) or on (white)
Note 1 to entry: Dot maps are purely qualitative in nature.
4.4.5
edge effect
phenomenon in which a secondary electron image appears bright, especially at a protuberance or the
edge of an uneven part of the specimen, owing to an increase in the number of secondary electrons
emitted from such an area
4.4.6
image contrast
C
difference in signal between two arbitrarily chosen points (P , P ) of interest in the image field,
1 2
normalized by the maximum possible signal available under the particular operating conditions
Note 1 to entry: C=|S -S |/S (0 < C <1), where S and S are the signals from the two arbitrarily chosen points
2 1 max 2 1
(P , P ), respectively, and S is the maximum possible signal available under the particular operating conditions.
1 2 max
10 © ISO 2013 – All rights reserved
4.4.7
image magnification
ratio of the linear dimension L of the scan display (e.g. along an edge) to the corresponding length l of the
scan field on the specimen
M = L/l
Note 1 to entry: Historically, the magnification was related to the size of the roll film used to photograph the CRT image.
For digital images displayable on screens of various sizes, it is more appropriate to specify the size of the scan field.
4.4.8
image resolution
minimum spacing at which two features of an image can be recognized as distinct and separate
Note 1 to entry: Image resolution can be measured as the minimum distance between two separable details
displayed by the image under the operating conditions chosen.
4.4.9
line analysis
analysis obtained when the electron probe is stepped across a portion of the specimen in a line
Note 1 to entry: The analytical points along the line analysis should be equidistant from each other and have the
same electron probe dwell time.
4.4.10
point analysis
analysis obtained when the electron probe is placed at a single location and held there for the duration
of the spectrometric measurement
4.4.11
secondary electron image
scanning electron beam image in which the signal is derived from a detector that selectively measures
secondary electrons (electrons having less than 50 eV) and is not directly sensitive to backscattered electrons
4.4.12
absorbed current image
specimen current image
scanning electron beam image prepared with a signal derived from the current absorbed by the
specimen and conducted to ground
Note 1 to entry: A specimen current amplifier in series with the specimen is used to measure the specimen current.
4.4.13
X-ray image
scanning electron beam image in which the output X-ray count rate from an energy-dispersive or
wavelength-dispersive X-ray spectrometer is used to modulate the brightness of the displayed pixel
corresponding to the beam position on the specimen
Note 1 to entry: The X-ray signal typically represents a narrow range of energy ΔE or wavelength range Δλ that
arises from a particular elemental species, along with the associated continuum in that range.
4.5
X-ray detection
measurement of an X-ray event employing an X-ray detection system
4.5.1
coincidence losses
〈in serial processing of X-ray events〉 the loss of X-rays incident on the detector due to the restriction of
the pulse measurement circuitry to processing one pulse at a time, resulting in dead time
4.5.2
counter energy resolution
width of the distribution of counting pulses produced by monochromatic X-radiation in a proportional
counter
4.5.3
counting pulse
charge collected in a proportional counter from the interaction of a single X-ray photon
4.5.4
counting statistics
mathematical measures of the distribution of stochastic events such as electron-excited X-rays
4.5.5
counting system
pulse counting system
electronic system used to detect and measure counting pulses from a gas proportional counter or an
energy-dispersive X-ray detector
4.5.6
dead time
τ
time that the system is unable to record a photon measurement because it is busy processing a previous
event and frequently expressed as a percentage of the total time
Note 1 to entry: See live time (4.5.11).
4.5.7
discriminator
〈pulse processing circuitry of a wavelength-dispersive X-ray spectrometer〉 a circuit whose function is
to define a minimum or maximum pulse voltage for acceptance
4.5.8
discriminator threshold
minimum voltage value an amplified pulse must reach for acceptance by the pulse counting system
4.5.9
discriminator window
voltage range above the discriminator threshold that a pulse must fall within for acceptance to the pulse
counting system
4.5.10
gas multiplication
method of amplification of an X-ray signal in a proportional counter
Note 1 to entry: In a proportional counter, X-rays are detected following photoelectric absorption by a gas atom
and subsequent ejection of an electron, which can scatter inelastically with other atoms and ionize them with
the ejection of low-energy electrons. These low-energy electrons are accelerated in the applied field, and can
themselves cause ionizations, multiplying the original deposited charge.
4.5.11
live time
time that the pulse measurement circuitry is available for the detection of X-ray photons
Note 1 to entry: See dead time (4.5.6).
Note 2 to entry: Live time = real time for analysis minus dead time. Real time is the time that would be measured
with a conventional clock. For X-ray acquisition, the real time always exceeds the live time.
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4.5.12
proportional counter
gas-filled chamber for X-ray detection in which the X-ray energy is transferred to a photoelectron which
then scatters inelastically
Note 1 to entry: There is a range of accelerating voltages for which, when the accelerating voltage is applied to a
central collection wire, the charge collected will be proportional to the photon energy.
4.5.13
pulse height distribution
the statistical distribution of counting pulses produced from photons of the same energy captured in a
proportional counter
4.6
X-ray spectrometry
method in which an X-ray spectrometer is used to measure the energy or wavelength distribution of
X-ray photons
4.6.1
characteristic peak
localized feature in an X-ray spectrum with higher intensity than the general level of the background
radiation that is associated with a specific atomic species
Note 1 to entry: Characteristic peaks are produced as a result of a sequence of inner shell ionization followed by
inter-shell electron transitions and electromagnetic radiation emission.
Note 2 to entry: The natural peak width in energy units is approximately 1 eV to 3 eV.
4.6.2
detector
device for detecting an X-ray photon and/or measuring the energy of that photon
Note 1 to entry: Examples of X-ray detectors include gas-filled proportional counters, microcalorimeters, intrinsic
germanium (Ge) detectors, lithium-drifted silicon (Si-Li) detectors, and silicon drift detectors (SDD).
4.6.3
detector artefacts
feature introduced into the X-ray spectrum as a result of the detection process (e.g. coincidence peak,
escape peak, higher-order peak) and not related to the true X-ray spectrum as emitted from the specimen
4.6.4
energy-dispersive X-ray spectrometer
EDS
device for determining X-ray intensity as a function of the energy of the radiation
4.6.4.1
dead layer
region of the semiconductor crystal immediately below the surface electrode which has a reduced
efficiency, relative to the interior of the crystal, for the collection of charge deposited when an X-ray
photon is absorbed
4.6.4.2
false peak
artefact peak
peak in an energy-dispersive X-ray spectrum caused by processes such as pulse coincidence (or pulse
sum) and radiation loss from the detector (e.g. Si escape peak)
4.6.4.3
internal fluorescence peak
any spectral feature that is produced by fluorescence within the detector, rather than from excitation
of the specimen
EXAMPLE The condition in a semiconductor EDS in which a photon is absorbed photoelectrically in the dead
layer just below the front surface of the electrode, and the subsequent emission of the characteristic photon of
the detector material (e.g. Si) appears as a contribution to the measured spectrum as an equivalent low-intensity
source apparently arising in the specimen.
4.6.4.4
microcalorimeter EDS
energy-dispersive spectrometer that operates on the basis of photoelectric absorption and
subsequent thermalization of the photon energy followed by thermometry to determine the
temperature rise in the absorber
4.6.4.5
semiconductor EDS
energy-dispersive spectrometer that operates on the basis of photoelectric absorption in a semiconductor
crystal and inelastic scattering of the photoelectron leading to charge deposition and measurement
4.6.4.5.1
intrinsic Ge EDS
energy-dispersive spectrometer that operates on the basis of photoelectric absorption in an intrinsic
Ge crystal
4.6.4.5.2
lithium-drifted silicon detector EDS
Si-Li EDS
energy-dispersive spectrometer that operates on the basis of photoelectric absorption in an Li-
doped Si crystal
4.6.4.5.3
silicon drift detector EDS
SDD EDS
energy-dispersive spectrometer that operates on the basis of photoabsorption in a silicon crystal in
which electric fields transverse to the detector surface are used to guide electrons to the collection anode
4.6.4.6
escape peak
peak that occurs as a result of the loss of incident photon energy by fluorescence of the detector material
such as Si in an Si-Li EDS detector
Note 1 to entry: Escape peaks occur at an energy equal to that of the incident characteristic peak minus the energy
of the X-ray line(s) emitted by the element(s) in the detector (1,74 keV for Si).
Note 2 to entry: Escape peaks cannot occur below the critical excitation energy of the material, so in an Si-Li EDS
detector an Si K escape peak does not occur for energies below 1,84 keV.
4.6.4.7
sum peak
artefact peak that arises from pulse coincidence effects which occur within the pulse pair resolution of
the pileup inspection circuitry
Note 1 to entry: Sum peaks appear at energies corresponding to the sum of the energies of the photons which
arrive at the detector essentially simultaneously.
4.6.4.8
system peak
artefact peak in an EDS spectrum caused by excitation of the specimen stage, the collimator, the chamber
and the polepiece remote from the specimen due to an unfocussed component of the primary incident
beam and/or backscattering from the specimen
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4.6.5
energy-dispersive X-ray spectrometry
EDX
EDS
form of X-ray spectrometry in which the energy of the individual photons is measured and is used to
build up a digital histogram representing the distribution of X-rays with energy
4.6.6
energy resolution
width of a peak as measured by an energy-dispersive X-ray spectrometer and expressed as the full peak
width at half the maximum of the peak height
Note 1 to entry: For EDS, energy resolution is usually specified as the value for Mn Kα (5,890 keV) because this
line can be obtained from a radioactive iron-55 isotope source.
Note 2 to entry: Spectrometers that claim detection of X-rays lower than 1 keV shall also be specified by the
FWHM of the C-K and the F-K lines. The specified FWHM shall be an upper limit.
Note 3 to entry: Adapted from ISO 15632:2012.
4.6.7
full peak width at half maximum
FWHM
measure of the breadth of an X-ray peak in which the background is first removed to reveal the
complete peak profile
Note 1 to entry: The maximum peak intensity is determined by fitting the full set of peak channels, and the width
is determined at half the peak height.
4.6.8
in-hole spectrum
X-ray spectrum measured while the beam is placed within a Faraday cup/cage placed at the position
where a specimen would normally undergo analysis
Note 1 to entry: This procedure is used to determine the extent of stray radiation in an electron beam instrument.
4.6.9
interfering peak
composite peak containing intensity contributions from more than one characteristic X-ray peak
4.6.10
natural line width
natural peak width
finite width of a characteristic X-ray peak which is a consequence, through the Heisenberg uncertainty
principle, of the finite lifetime dt of the excited state of a photo-ionized atom resulting in an uncertainty
dE in the photon energy
4.6.11
peak shift
change in the position of an X-ray peak, typically caused by chemical bonding effects
4.6.12
pulse height analysis
technique for separating X-rays of different energies that diffract at the same WDS setting
Note 1 to entry: In diffraction-based wavelength dispersive spectrometers, peak interference can occur when
photons of two different energies but which have the same value of the product nλ diffract at the same spectrometer
setting (nλ = 2dsinθ). By operating the high-voltage gas ionization detector in the voltage regime where charge
collected on the central wire is proportional to photon energy, the distribution of pulses coming from the detector
will have a separate peak for each of the two photon energies entering the detector. Discrimination of the pulse
peaks is achieved by placing a voltage acceptance window in the pulse processing amplification chain.
4.6.13
spectrometer efficiency
fraction of photons incident upon an X-ray spectrometer that are actually detected
4.6.14
wavelength-dispersive spectrometer
WDS
device for determining X-ray intensity as a function of the wavelength of the radiation, where separation
is based upon Bragg’s law, nλ = 2dsinθ, where n is an integer, λ is the X-ray wavelength, d is the spacing of
the atom planes of the crystal or the repeated layers of a synthetic diffractor and θ is the angle at which
constructive interference takes place
Note 1 to entry: X-rays diffracted at a particular angle are directed to a gas counter operated in the proportional
response regime where the charge produced is proportional to the photon energy.
4.6.14.1
d-spacing
spacing of the atomic planes in a crystal or the repeat distance in a synthetic multilayer structure used
as a diffractor
4.6.14.2
defocussing
deviations of the X-ray source from the Rowland circle, due for example to the beam displacement
caused by scanning
Note 1 to entry: The wavelength-dispersive spectrometer with curved diffracting crystals has optical focussing
properties such that the position of the X-ray source, the diffractor and the detector must all lie on the Rowland
circle. Defocussing may cause a loss in spectrometer transmission, especially if the motion is in the direction
perpendicular to the diffractor thickness or out of the diffractor plane.
4.6.14.3
diffracting crystal
X-ray scattering element in a wavelength-dispersive X-ray spectrometer, consisting of a periodic array
of atoms obtained either in a natural crystal or in a synthetic multilayer
4.6.14.4
high-order diffraction
peak observed with a wavelength-dispersive X-ray spectrometer for which the order n of the diffraction
(in the Bragg equation nλ = 2dsinθ) is greater than 1
4.6.14.5
horizontal geometry
arrangement in WDS where the plane of the spectrometer (or Rowland circle) is perpendicular to the
electron beam axis
4.6.14.6
inclined geometry
arrangement in WDS in which a significant fraction of the plane of the spectrometer (or Rowland circle)
is projected onto the electron beam axis
4.6.14.7
Johann optics
wavelength-dispersive X-ray spectrometer in which the diffractor is bent to a radius twice that of the
Rowland circle, achieving a “semifocussing” situation
4.6.14.8
Johansson optics
wavelength-dispersive X-ray spectrometer in which the diffractor is bent to a radius twice that of the
Rowland circle and then its surface ground to the radius, achieving a fully focussing situation
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4.6.14.9
layered synthetic microstructure
LSM
diffractor created artificially by alternating layers of a material (e.g. tungsten) with strong X-ray
scattering power and a weak scattering material (e.g. carbon) to create large grating spacings for
diffracting low-energy (long-wavelength) X-rays
4.6.14.10
LDE crystal
layered synthetic microstructure diffractor having a wide spacing to permit diffraction of long-
wavelength (low-energy) X-rays
4.6.14.11
Rowland circle
circle of focus along which the X-ray source, the diffractor and the detector must all lie to satisfy the
Bragg condition and obtain constructive interference
4.6.14.12
vertical geometry
arrangement in WDS where the plane of the spectrometer (or Rowland circle) is parallel to the
electron beam axis z
4.6.15
wavelength-dispersive spectrometry
wavelength-dispersive X-ray spectrometry
WDX
method for examining the intensity of X-rays as a function of the photon wavelength
4.6.16
wavelength resolution
full peak width at half maximum of a peak in terms of wavelength (Δλ) obtained from a single X-ray
transition by a WDS
4.6.17
wavelength resolving power
λ/Δλ
reciproca
...
NORME ISO
INTERNATIONALE 23833
Deuxième édition
2013-04-15
Analyse par microfaisceaux —
Analyse par microsonde électronique
(microsonde de Castaing) —
Vocabulaire
Microbeam analysis — Electron probe microanalysis (EPMA) —
Vocabulary
Numéro de référence
©
ISO 2013
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© ISO 2013
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l’internet ou sur un Intranet, sans autorisation écrite préalable. Les demandes d’autorisation peuvent être adressées à l’ISO à
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ISO copyright office
Case postale 56 • CH-1211 Geneva 20
Tel. + 41 22 749 01 11
Fax + 41 22 749 09 47
E-mail copyright@iso.org
Web www.iso.org
Publié en Suisse
ii © ISO 2013 – Tous droits réservés
Sommaire Page
Avant-propos .iv
Introduction .v
1 Domaine d’application . 1
2 Abréviations . 1
3 Définitions de termes généraux utilisés dans l’analyse par microsonde de Castaing .1
4 Définition de termes utilisés pour décrire l’instrumentation EPMA .7
5 Définition de termes utilisés en EPMA .18
Bibliographie .28
Avant-propos
L’ISO (Organisation internationale de normalisation) est une fédération mondiale d’organismes
nationaux de normalisation (comités membres de l’ISO). L’élaboration des Normes internationales est
en général confiée aux comités techniques de l’ISO. Chaque comité membre intéressé par une étude
a le droit de faire partie du comité technique créé à cet effet. Les organisations internationales,
gouvernementales et non gouvernementales, en liaison avec l’ISO participent également aux travaux.
L’ISO collabore étroitement avec la Commission électrotechnique internationale (CEI) en ce qui concerne
la normalisation électrotechnique.
Les Normes internationales sont rédigées conformément aux règles données dans les Directives
ISO/CEI, Partie 2.
La tâche principale des comités techniques est d’élaborer les Normes internationales. Les projets de
Normes internationales adoptés par les comités techniques sont soumis aux comités membres pour vote.
Leur publication comme Normes internationales requiert l’approbation de 75 % au moins des comités
membres votants.
L’attention est appelée sur le fait que certains des éléments du présent document peuvent faire l’objet de
droits de propriété intellectuelle ou de droits analogues. L’ISO ne saurait être tenue pour responsable de
ne pas avoir identifié de tels droits de propriété et averti de leur existence.
L’ISO 23833 a été élaborée par le comité technique ISO/TC 202, Analyse par microfaisceaux, sous-comité
SC 1, Terminologie.
La Société européenne d’analyse par microfaisceaux (EMAS) a contribué à la préparation de ce document.
Cette deuxième édition de l’ISO 23833 annule et remplace la première édition (ISO 23833:2006), dont
elle constitue une révision mineure.
La présente Norme internationale est liée par référence croisée à la norme relative au vocabulaire de
l’analyse chimique des surfaces préparée par l’ISO/TC 201 (ISO 18115-1:2010).
iv © ISO 2013 – Tous droits réservés
Introduction
L’analyse de rayons X par microsonde électronique ou microsonde de Castaing (EPMA) est une technique
moderne utilisée pour déterminer sur le plan qualitatif et mesurer sur le plan quantitatif la composition
élémentaire de matériaux solides, y compris des alliages métalliques, céramiques, verres, minéraux,
polymères, poudres etc., sur une échelle spatiale d’environ un micromètre latéralement et en profondeur.
L’EPMA est basée sur le mécanisme physique de l’émission de rayons X stimulée par des électrons et de
la spectrométrie X.
Étant l’un des principaux sous-domaines de l’analyse par microfaisceaux, la technique EPMA est
largement appliquée dans différents secteurs de l’économie (hautes technologies, industries de base,
métallurgie et géologie, biologie et médecine, protection de l’environnement, commerce, etc.) et elle
présente un vaste environnement commercial pour la normalisation.
La normalisation de la terminologie dans un domaine technique donné est l’une des conditions de base
préalables au développement de normes sur d’autres aspects de ce domaine.
La présente Norme internationale répond à la nécessité de disposer d’un vocabulaire EPMA contenant des
définitions cohérentes de termes qui sont utilisés dans la pratique de l’analyse par microsonde électronique,
par les communautés scientifiques et techniques internationales qui emploient cette technique.
NORME INTERNATIONALE ISO 23833:2013(F)
Analyse par microfaisceaux — Analyse par microsonde
électronique (microsonde de Castaing) — Vocabulaire
1 Domaine d’application
La présente Norme internationale définit des termes employés dans la pratique de l’analyse par
microsonde électronique (microsonde de Castaing). Elle couvre à la fois des concepts généraux et des
concepts spécifiques, classés selon le rang hiérarchique qu’ils occupent dans un ordre systématique.
La présente Norme internationale est applicable à tous les documents de normalisation relatifs à la
pratique de l’EPMA. En outre, certaines parties de la présente Norme internationale sont applicables
aux documents relatifs à la pratique de techniques apparentées (MEB, AEM, EDX, etc.) pour la définition
des termes communs à ces techniques.
2 Abréviations
BSE électron rétrodiffusé
MRC matériau de référence certifié
EDS spectromètre à sélection d’énergie
EDX spectrométrie X à sélection d’énergie
EPMA analyse par microsonde de Castaing ou microsonde de Castaing
eV électronvolt
keV kiloélectronvolt
MR matériau de référence
SE électron secondaire
MEB microscope électronique à balayage
WDS spectromètre à dispersion de longueur d’onde
WDX spectrométrie X à dispersion de longueur d’onde
3 Définitions de termes généraux utilisés dans l’analyse par microsonde de
Castaing
3.1
analyse par microsonde de Castaing
EPMA
technique d’analyse élémentaire à résolution spatiale, basée sur la spectrométrie X par excitation
d’électrons, utilisant une sonde électronique focalisée et un volume d’interaction des électrons ayant
des dimensions micrométriques à submicrométriques
3.1.1
EPMA qualitative
mode opératoire de l’EPMA entraînant l’identification des éléments présents dans le volume d’interaction
provoqué par l’excitation d’électrons, par une méthode systématique de reconnaissance et d’affectation
des pics de spectres de rayons X à des éléments spécifiques
3.1.2
EPMA quantitative
mode opératoire entraînant l’affectation de valeurs numériques pour représenter les concentrations
de constituants élémentaires qui avaient été identifiées précédemment dans le volume d’interaction
provoqué par l’excitation d’électrons lors de la phase d’analyse qualitative de l’EPMA
Note 1 à l’article: L’analyse quantitative peut être réalisée en comparant les intensités inconnues de pics X aux
intensités de pics X mesurées dans les mêmes conditions sur un ou des matériaux de référence, ou bien en calculant
la concentration à partir des premiers principes (également connue sous le nom d’analyse sans témoin).
3.2
microsonde de Castaing
instrument permettant de réaliser une microanalyse de rayons X émis par excitation d’électrons
Note 1 à l’article: Cet instrument est généralement équipé de plus d’un seul spectromètre de longueur d’onde et
d’un microscope optique pour positionner les échantillons avec fidélité.
3.3
diffusion d’électrons
écart de trajectoire et/ou d’énergie cinétique subi par les électrons d’un faisceau énergétique incident
suite à une interaction avec un atome ou électron de l’échantillon
3.3.1
angle de diffusion
angle entre la direction de la particule ou du photon incident et la direction que prend la particule ou le
photon après la diffusion
[ISO 18115-1:2010]
3.3.2
rétrodiffusion
échappement d’électrons du faisceau en dehors de l’échantillon, suite à des événements de diffusion
suffisants pour faire en sorte que les trajectoires croisent la surface d’entrée de l’échantillon
3.3.2.1
coefficient de rétrodiffusion
η
fraction d’électrons du faisceau qui sont rétrodiffusés, définie par l’équation suivante:
η = n(BS)/n(B)
où n(B) est le nombre d’électrons incidents et n(BS) le nombre d’électrons rétrodiffusés
3.3.2.2
électron rétrodiffusé
électron éjecté de la surface d’entrée de l’échantillon par un processus de rétrodiffusion
3.3.2.3
distribution angulaire d’électrons rétrodiffusés
distribution d’électrons rétrodiffusés en tant que fonction de l’angle relatif à la normale de la surface
3.3.2.4
distribution en profondeur d’électrons rétrodiffusés
distribution d’électrons rétrodiffusés en tant que fonction de la profondeur maximale atteinte dans
l’échantillon avant qu’ils ne reviennent à la surface d’entrée pour quitter l’échantillon
2 © ISO 2013 – Tous droits réservés
3.3.3
approximation de la perte d’énergie continue
description mathématique de la perte d’énergie par la propagation rapide d’électrons dans la matière,
selon laquelle tous les processus inélastiques discrets sont donnés approximativement sous la forme
d’un processus unique de perte d’énergie continue
Note 1 à l’article: Appelée aussi approximation du ralentissement continu (CSDA).
3.3.4
diffusion élastique
interaction d’un électron énergétique issu du faisceau incident et d’un atome de l’échantillon, pendant
laquelle l’énergie de l’électron reste principalement inchangée mais sa trajectoire est modifiée selon un
angle compris entre 0 et π rad (180°), avec une moyenne d’environ 0,1 rad
3.3.5
diffusion inélastique
interaction d’un électron énergétique issu du faisceau incident et d’un atome ou électron de l’échantillon,
pendant laquelle l’énergie cinétique est perdue pour l’échantillon par divers mécanismes (génération
d’électrons secondaires, bremsstrahlung, ionisation de la couche interne, excitation du plasmon et du photon)
Note 1 à l’article: Pour la diffusion inélastique, la trajectoire des électrons est modifiée selon un angle faible,
généralement inférieur à 0,01 rad.
3.3.6
section efficace de diffusion
nombre d’événements de diffusion par unité de surface
description mathématique de la probabilité d’un événement de diffusion (élastique ou inélastique)
Note 1 à l’article: Voir section efficace d’ionisation (3.4.4).
Note 2 à l’article: La section efficace de diffusion est généralement exprimée simplement comme une surface,
en cm . Le nombre d’événements de diffusion par unité de surface est exprimé par le nombre d’événements/
(atomes/cm ).
3.3.7
effet de diffusion
phénomène physique mesurable tel que la rétrodiffusion d’électrons ou la perte de génération de
rayons X, résultant de la modification de la trajectoire et/ou de l’énergie cinétique d’un électron du
faisceau énergétique incident, par des processus de diffusion dans l’échantillon
3.3.8
électron secondaire
électron d’un échantillon, émis suite à la diffusion inélastique de l’électron primaire du faisceau par des
électrons de valence faiblement liés de l’échantillon
Note 1 à l’article: Les électrons secondaires ont par convention une énergie inférieure à 50 eV.
3.4
rayon X
photon de rayonnement électromagnétique créé par l’ionisation de la couche interne ou par décélération
d’un électron énergétique dans le champ coulombien d’un atome
3.4.1
rayon X caractéristique
photon de rayonnement électromagnétique créé par la relaxation d’un état atomique excité créé par
l’ionisation de la couche interne suite à la diffusion inélastique d’un électron ou d’un ion énergétique, ou
par absorption d’un photon X
3.4.2
rayon X continu
photon de rayonnement électromagnétique créé par décélération (mécanisme de diffusion inélastique)
d’un électron énergétique dans le champ coulombien d’un atome
3.4.3
rendement de fluorescence
ω
fraction d’événements d’ionisation de la couche interne qui provoquent l’émission de rayons X
caractéristiques pendant la désexcitation qui suit
Note 1 à l’article: Le rendement de fluorescence est indépendant de la méthode d’ionisation.
3.4.4
section efficace d’ionisation
nombre d’événements d’ionisation par unité de surface
description mathématique de la probabilité d’ioniser un atome en rejetant un électron atomique d’une
couche particulière d’électrons liés dans le vide non lié ou continuum
Note 1 à l’article: Voir section efficace de diffusion (3.3.6).
Note 2 à l’article: La section efficace d’ionisation est généralement exprimée simplement comme une surface, en
2 –24 2
cm ou en barns (10 cm ). La probabilité d’événements d’ionisation est exprimée par le nombre d’événements/
(atomes/cm ).
Note 3 à l’article: La section efficace d’ionisation est généralement désignée par Q, qui est défini par l’expression
mathématique suivante: dn = Q(Nρ/A)dx où dn est le nombre d’événements d’ionisation qui se produisent à chaque
incrément dx du trajet des électrons et Nρ/A est le nombre d’atomes par unité de volume.
3.4.5
énergie d’ionisation
énergie d’excitation critique
énergie de seuil
énergie minimale requise pour ioniser un électron atomique, c’est-à-dire pour retirer un électron lié
d’une couche (par exemple K, L, etc.) afin d’obtenir (au minimum) le continuum d’états énergétiques
dans un solide
Note 1 à l’article: Les unités d’énergie d’ionisation sont l’électronvolt (eV) ou le kiloélectronvolt (keV).
3.4.6
valeur J
énergie d’ionisation moyenne, un paramètre critique dans les descriptions mathématiques de
l’approximation de la perte d’énergie continue
3.4.7
loi de ralentissement
dE/ds
taux de perte d’énergie d’un électron primaire (à partir de tous les processus de diffusion inélastique)
par rapport à la distance parcourue dans l’échantillon
Note 1 à l’article: La loi de ralentissement est exprimée comme étant la perte d’énergie par rapport à l’unité de
distance (par exemple eV/nm).
3.4.8
effet de fluorescence X
fluorescence secondaire
absorption photoélectrique d’un rayon X (caractéristique ou bremsstrahlung) par un atome, donnant
un état atomique excité qui se désexcitera avec une transition d’électron d’une couche à une autre et
l’émission ultérieure d’un électron Auger ou d’un rayon X caractéristique de l’atome absorbant
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3.4.9
génération de rayons X
génération de rayons X dans l’échantillon sous l’effet du bombardement d’un faisceau incident (électrons,
ions ou photons)
Note 1 à l’article: Les rayons X peuvent être générés par l’ionisation de couches atomiques internes (rayons X
caractéristiques) ou par le processus de «rayonnement de freinage» (bremsstrahlung) (rayonnement du
continuum ou rayonnement blanc).
3.5
absorption de rayons X
atténuation de l’intensité de rayons X traversant la matière, due principalement à l’absorption
photoélectrique pour les énergies X adaptées à l’EPMA
3.5.1
saut d’absorption
énergie d’ionisation pour une couche ou sous-couche particulière d’une espèce d’atome
Note 1 à l’article: Les sauts d’absorption sont détectés dans des spectres comme des discontinuités du fond continu
de rayons X (bremsstrahlung) dues à un changement net du coefficient d’absorption massique de rayons X à la
discontinuité.
3.5.2
facteur d’absorption
f(χ)
rapport entre l’intensité de rayons X émise et l’intensité générée vers le détecteur de rayons X
3.5.3
fonction de distribution en profondeur
ϕ(ρz)
fonction décrivant la distribution de rayons X générés en fonction de la profondeur en dessous de la
surface de l’échantillon
Note 1 à l’article: ρz est exprimé en unités de masse multipliées par l’épaisseur (profondeur).
3.5.4
discontinuité d’absorption
rapport du coefficient d’absorption des rayons X à une énergie située juste avant un saut
d’absorption à celui obtenu à une énergie située juste après ce saut
Note 1 à l’article: Les spectres d’absorption des rayons X peuvent avoir des formes complexes pour les énergies
de rayons X proches des seuils de photo-ionisation et un saut correctement défini n’est pas toujours observé au
niveau du seuil.
[ISO 18115-1:2010]
3.5.5
coefficient d’absorption massique
μ /ρ
l
paramètre matériel lié à la perte d’intensité des rayons X due uniquement à l’absorption photoélectrique
pendant le passage dans la matière, où μ est le coefficient d’absorption linéaire et ρ est la masse
l
volumique du matériau
Note 1 à l’article: Les dimensions sont exprimées en unité de surface par unité de masse (exemple: cm /g). Il est
parfois fait référence à la section efficace d’absorption massique.
3.5.6
coefficient d’atténuation massique
μ/ρ
paramètre matériel lié à la perte d’intensité des rayons X due à l’ensemble des processus d’absorption et
de diffusion pendant le passage dans la matière, déterminé par l’équation suivante:
I/I = exp[–(μ/ρ)ρs]
où I est l’intensité des rayons X incidents, I est l’intensité restante après traversée sur une distance
s du matériau, μ est le coefficient d’absorption linéaire, ρ est la masse volumique du matériau, s est
l’épaisseur du trajet parcouru en cm
Note 1 à l’article: Les dimensions sont exprimées en unité de surface par unité de masse (exemple: cm /g). Il est
parfois fait référence à la section efficace d’absorption massique.
3.5.7
profondeur massique
ρz
description d’une dimension comme produit de la distance linéaire (cm) et de la masse volumique (g/cm )
Note 1 à l’article: Elle est exprimée en grammes par centimètres carrés.
3.5.8
angle d’émergence des rayons X
ψ
angle formé par la surface de l’échantillon et l’axe central du spectromètre X
3.6
spectre de rayons X
courbe de l’intensité de photons X en tant que fonction de l’énergie ou de la longueur d’onde
Note 1 à l’article: Le plus souvent, c’est le nombre de photons par unité de temps qui est représenté, mais d’autres
mesures de l’intensité sont possibles.
3.6.1
spectre de rayons X caractéristiques
pics ou raies X associés à une espèce d’atome en particulier et générés par l’ionisation de la couche
interne (causée par un photon, un ion ou un électron énergétique), suivie de transitions électroniques
entre couches et de l’émission d’énergie excédentaire sous forme d’un photon
3.6.1.1
famille de raies X
ensemble systématique de rayons X caractéristiques produits en tant que résultat de tous les trajets
possibles d’ionisation d’une couche/sous-couche particulière et des transitions électroniques entre les
couches qui se produisent par la suite
3.6.1.2
raie K
une des émissions de raies caractéristiques provenant de l’ionisation de la couche K
3.6.1.3
spectre K
série de rayons X caractéristiques provenant de l’ionisation de la couche K d’un atome
3.6.1.4
raie L
une des émissions de raies caractéristiques provenant de l’ionisation de la couche L
3.6.1.5
spectre L
série de rayons X caractéristiques provenant de l’ionisation des couches L d’un atome
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3.6.1.6
raie M
une des émissions de raies caractéristiques provenant de l’ionisation de la couche M
3.6.1.7
spectre M
série de rayons X caractéristiques provenant de l’ionisation des couches M d’un atome
3.6.1.8
raie satellite
composante à abondance relative faible, proche d’un pic caractéristique, qui peut résulter de l’un
quelconque de divers processus ou situations: transitions «interdites», raies «hors diagramme» et
atomes doublement ionisés
3.6.1.9
table de raies X
table des paramètres fondamentaux pour l’analyse qualitative par EPMA
Note 1 à l’article: La table de raies X pour l’analyse qualitative par EPMA contient les longueurs d’onde (ou
énergies) des raies K, L et M des éléments à analyser. Il peut inclure également leurs intensités relatives, la largeur
à mi-hauteur (FWHM) de chaque pic, les noms des cristaux de diffraction utilisés et leur distance interplanaire,
ainsi que les longueurs d’onde (ou énergies) des raies satellites.
3.6.2
spectre continu de rayons X
continuum
bremsstrahlung
rayonnement de freinage
spectre de rayons X non caractéristique créé par la décélération d’électrons dans le champ coulombien
d’un atome et ayant une distribution en énergie comprise entre 0 et l’énergie du faisceau incident E
(limite de Duane-Hunt)
3.6.2.1
limite de Duane-Hunt
énergie du faisceau
E
énergie photonique maximale dans le spectre de rayons X continu, correspondant à la conversion
complète de l’énergie d’un électron incident en un événement isolé
3.6.2.2
loi de Kramer
observation expérimentale de l’intensité du continuum de rayons X en tant que fonction de l’énergie du
faisceau d’électrons incident, de l’énergie photonique et du numéro atomique de l’échantillon
4 Définition de termes utilisés pour décrire l’instrumentation EPMA
4.1
optique électronique
système de lentilles électrostatiques et électromagnétiques constituant le système de formation de faisceau
4.1.1
condenseur
première lentille de réduction, c’est-à-dire, dans un système à deux lentilles, celle qui est placée
immédiatement en dessous du canon à électrons
Note 1 à l’article: Sa fonction principale consiste à définir le courant du faisceau.
4.1.1.1
diaphragme du condenseur
diaphragme fixe comportant une ouverture axiale qui définit la transmission angulaire du condenseur
4.1.1.2
courant du condenseur
courant réglable de l’extérieur, qui circule dans la bobine du condenseur, générant le champ magnétique
donnant lieu à l’action de focalisation
4.1.2
réduction
valeur numérique correspondant à la réduction en taille du diamètre d’un faisceau au moment où il
quitte la lentille, par rapport au diamètre incident, sous l’action de la focalisation
Note 1 à l’article: Cette valeur est égale à p/q, où p est la distance entre l’objet et le centre de la lentille et q est la
distance entre l’image et le centre de la lentille.
4.1.3
canon à électrons
source d’électrons dans l’EPMA, se composant d’un émetteur (filament chauffé en tungstène ou LaB ou
bien d’une pointe d’émission de champ froide ou assistée thermiquement) et de l’optique d’accélération
et d’extraction électrostatique
4.1.3.1
brillance du canon à électrons
β
courant par unité de surface et par unité d’angle solide dans le faisceau, calculé par l’équation suivante:
2 2 2
β = 4I/(π d α )
où I est l’intensité du courant (A), d est le diamètre du faisceau (cm) et α est la divergence du faisceau (rad)
4.1.3.2
courant du canon à électrons
courant du faisceau
courant du faisceau lorsque celui-ci quitte le dernier élément du canon à électrons
4.1.4
objectif
lentille formant la sonde électronique, c’est-à-dire, dans un système à deux lentilles, celle qui est placée
immédiatement au-dessus de l’échantillon et en dessous du condenseur
Note 1 à l’article: Sa fonction principale consiste à focaliser la sonde finale.
4.1.4.1
aberration de l’objectif
n’importe lequel des différents défauts de la lentille (aberration sphérique, aberration chromatique,
diffraction, etc.) dégradant la focalisation de la sonde
4.1.4.2
diaphragme de l’objectif
diaphragme comportant une ouverture axiale placée au-dessus de l’objectif, qui définit la divergence
angulaire du faisceau focalisé et qui réduit les aberrations sphériques
Note 1 à l’article: Généralement, une sélection de diaphragmes se trouve sur un coulisseau réglable de l’extérieur.
4.1.4.3
courant de l’objectif
courant réglable de l’extérieur, qui circule dans la bobine de l’objectif, générant le champ magnétique
donnant lieu à l’action de focalisation
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4.1.5
distance de travail
distance séparant la face inférieure de la pièce polaire de l’objectif et la surface de l’échantillon
Note 1 à l’article: Dans le passé, cette distance était définie comme la distance séparant le plan principal de
l’objectif et le plan contenant la surface de l’échantillon.
4.2
faisceau d’électrons
〈optique électronique〉 faisceau d’électrons préalable à sa focalisation par le système optique électronique
sur l’échantillon
4.2.1
courant du faisceau
courant électronique du faisceau d’électrons
Note 1 à l’article: Voir faisceau d’électrons (3.2).
4.2.1.1
densité du courant du faisceau
courant du faisceau ramené à la surface du faisceau
Note 1 à l’article: Il est exprimé en ampères par centimètre carré.
4.2.1.2
stabilité du courant du faisceau
variation du courant du faisceau au cours du temps
Note 1 à l’article: Voir courant du faisceau (4.2.1).
4.2.1.3
diamètre du faisceau
diamètre du faisceau d’électrons contenant une fraction spécifiée du courant total, par exemple 0,8
(80 %) du total.
Note 1 à l’article: Voir faisceau d’électrons (4.2).
Note 2 à l’article: Le diamètre du faisceau peut être mesuré comme étant la largeur à mi-hauteur (FWHM) du pic
du courant du faisceau sur le diamètre de la section perpendiculaire au faisceau.
4.2.2
cylindre de Faraday
cible spéciale destinée à recueillir le courant du faisceau incident avec une perte de courant négligeable
due à la rétrodiffusion ou à l’émission d’électrons secondaires
Note 1 à l’article: Le cylindre de Faraday se compose de manière typique d’un trou borgne percé dans un bloc de
carbone recouvert d’un diaphragme métallique d’environ 100 µm de diamètre.
4.3
sonde électronique
〈optique électronique〉 faisceau d’électrons focalisé sur l’échantillon par le système optique électronique
Note 1 à l’article: 〈instruments〉 Voir microsonde de Castaing (3.2).
Note 2 à l’article: Le diamètre du faisceau sur le plan de l’échantillon est de manière typique de plusieurs
nanomètres à plusieurs micromètres.
4.3.1
courant de sonde
courant électronique de la sonde électronique
Note 1 à l’article: Voir sonde électronique (4.3).
4.3.1.1
densité de courant de sonde
courant de sonde ramené à la surface de sonde
Note 1 à l’article: Il est exprimé en ampères par centimètre carré.
4.3.1.2
stabilité du courant de sonde
variation du courant de sonde au cours du temps
4.3.2
diamètre de sonde
diamètre de sonde contenant une fraction spécifiée du courant total, par exemple 0,8 (80 %) du total.
Note 1 à l’article: Le diamètre de sonde peut être mesuré comme étant la largeur à mi-hauteur (FWHM) du pic du
courant de la sonde sur le diamètre de la section perpendiculaire à la sonde.
4.3.3
platine porte-échantillon
composant d’une microsonde de Castaing, qui permet de déplacer l’échantillon, généralement sur au
moins deux dimensions (le long des axes x et y perpendiculaires au faisceau)
Note 1 à l’article: La platine porte-échantillon peut également déplacer l’échantillon sur trois dimensions (axes x,
y et z, l’axe z étant parallèle au faisceau), l’incliner et le faire tourner.
4.3.4
courant absorbé
courant d’échantillon
courant circulant entre l’échantillon conducteur et la masse, représentant la différence entre le courant
du faisceau injecté dans l’échantillon et le courant émis sous la forme d’électrons rétrodiffusés et
d’électrons secondaires
4.4
image de balayage électronique
image de balayage
image constituée par le déplacement d’un faisceau d’électrons incident vers des emplacements discrets
d’un échantillon, en collectant les informations ainsi générées (signal d’électrons secondaires, signal
d’électrons rétrodiffusés, rayons X, etc.) et en affichant ce signal à un point correspondant sur un écran
tel qu’un tube cathodique ou en le stockant en tant que valeur numérique dans un emplacement de la
mémoire d’un ordinateur
4.4.1
balayage d’une zone
action de balayage par faisceau pour couvrir une zone spécifique de l’échantillon pendant l’enregistrement
d’une cartographie
4.4.2
image en électrons rétrodiffusés
image d’une plage balayée dans laquelle le signal provient d’un détecteur d’électrons rétrodiffusés
spécifique (par exemple d’un scintillateur passif, d’une diode solide, d’un détecteur d’électrons par
plaque ou d’un détecteur Everhart-Thornley avec une tension négative)
4.4.3
imagerie spectrale
cartographie X dans laquelle toutes les corrections importantes sont réalisées pour chaque élément
d’image afin de produire une carte sur laquelle la concentration quantitative d’un élément est utilisée
pour sélectionner l’échelle de gris ou de couleur pour l’affichage final
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4.4.4
cartographie binaire
forme d’affichage pour cartes de rayons X dans laquelle l’intensité des rayons X est utilisée pour
sélectionner un affichage à deux états, arrêt (noir) ou marche (blanc)
Note 1 à l’article: Les cartes binaires sont de nature purement qualitative.
4.4.5
effet de bord
phénomène dans lequel une image en électrons secondaires apparaît brillante, en particulier sur une
protubérance ou au bord d’une partie non uniforme de l’échantillon, en raison d’une augmentation du
nombre d’électrons secondaires émis à partir de cette surface
4.4.6
contraste d’image
C
différence de signal entre deux points étudiés (P , P ) du champ d’image, choisis arbitrairement, par
1 2
rapport au plus grand signal possible disponible dans les conditions de fonctionnement particulières
Note 1 à l’article: C=|S -S |/S (0 < C < 1), où S et S sont respectivement les signaux des deux points choisis
2 1 max 2 1
arbitrairement (P , P ), et S est le plus grand signal disponible dans les conditions de fonctionnement
1 2 max
particulières.
4.4.7
grandissement d’image
rapport entre la dimension linéaire L de l’affichage de balayage (par exemple le long d’un bord) et la
longueur l correspondante du champ de balayage de l’échantillon
M = L/l
Note 1 à l’article: Traditionnellement, le grandissement était lié aux dimensions de la pellicule utilisée pour
photographier les images pour écran à tube cathodique. Pour les images numériques affichables sur des écrans de
différentes dimensions, il est plus pertinent de spécifier les dimensions du champ de lecture.
4.4.8
résolution d’image
intervalle minimal nécessaire pour que deux composantes d’une image puissent être reconnues comme
distinctes et séparées
Note 1 à l’article: La résolution d’image peut être mesurée comme étant la distance minimale entre deux détails
séparables affichés par l’image dans les conditions de fonctionnement choisies.
4.4.9
analyse ligne
analyse obtenue lorsque la sonde électronique traverse une partie de l’échantillon sur une ligne
Note 1 à l’article: Tout au long de l’analyse ligne, il convient que les points d’analyse soient équidistants les uns des
autres et que le temps de mesure soit le même.
4.4.10
analyse ponctuelle
analyse obtenue lorsque la sonde électronique est placée à un endroit isolé et qu’elle y est maintenue
pendant la durée des mesurages spectrométriques
4.4.11
image en électrons secondaires
image d’un faisceau électronique de balayage dans laquelle le signal provient d’un détecteur qui mesure
de manière sélective des électrons secondaires (électrons de moins de 50 eV) et qui n’est pas directement
sensible aux électrons rétrodiffusés
4.4.12
image en courant absorbé
image en courant d’échantillon
image de balayage formée par le signal provenant du courant absorbé par l’échantillon et conduit à la masse
Note 1 à l’article: Un amplificateur de courant placé en série avec l’échantillon est utilisé pour mesurer le courant
d’échantillon.
4.4.13
image X
image de balayage dans laquelle on utilise le taux de comptage de rayons X émis par un spectromètre
X à sélection d’énergie ou à dispersion de longueur d’onde pour moduler la brillance du pixel affiché,
correspondant à la position du faisceau sur l’échantillon
Note 1 à l’article: Le signal X représente de manière typique une gamme étroite d’énergies ΔE ou de longueurs
d’onde Δλ provenant d’une espèce d’élément en particulier, ainsi que le continuum associé dans cette gamme.
4.5
détection X
mesurage d’un événement en rayons X employant un système de détection de rayons X
4.5.1
pertes par coïncidence
〈dans le traitement des photons X〉 perte de comptage de rayons X incidents sur le détecteur due au fait que le
circuit de mesurage des impulsions ne traite qu’une seule impulsion à la fois, ce qui engendre un temps mort
4.5.2
résolution énergétique du compteur
étendue de la distribution des impulsions de comptage produites par un rayonnement X monochromatique
dans un compteur proportionnel
4.5.3
impulsion de comptage
charge collectée dans un compteur proportionnel, due à l’interaction d’un photon X isolé
4.5.4
statistique de comptage
mesures mathématiques de la distribution d’événements stochastiques tels que les rayons X émis par
excitation d’électrons
4.5.5
système de comptage
système de comptage d’impulsions
système électronique utilisé pour détecter et mesurer les impulsions à l’aide d’un compteur proportionnel
à gaz ou d’un détecteur à sélection d’énergie
4.5.6
temps mort
τ
temps pendant lequel le système est incapable de mesurer des photons car il est occupé à traiter un
événement précédent, et qui est exprimé comme un pourcentage du temps total
Note 1 à l’article: Voir temps actif (4.5.11).
4.5.7
discriminateur
〈circuit de traitement des impulsions d’un spectromètre X à dispersion de longueur d’onde〉 circuit dont
la fonction consiste à définir la tension d’impulsion minimale ou maximale pour prise en compte
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4.5.8
seuil du discriminateur
valeur minimale de tension qu’une impulsion amplifiée doit atteindre pour être prise en compte par le
système de comptage des impulsions
4.5.9
fenêtre du discriminateur
gamme de tensions au-dessus du seuil du discriminateur dans laquelle doit se situer une impulsion pour
être prise en compte par le système de comptage des impulsions
4.5.10
multiplication gazeuse
méthode d’amplification d’un signal X dans un compteur proportionnel
Note 1 à l’article: Dans un compteur proportionnel, les rayons X sont détectés suite à l’absorption photoélectrique
par un atome de gaz, puis à l’éjection d’un électron, lequel peut se diffuser de manière inélastique avec d’autres
atomes et les ioniser par l’éjection d’électrons de faible énergie. Ces électrons de faible énergie sont accélérés dans
le champ appliqué et peuvent causer eux-mêmes des ionisations, en multipliant la charge d’origine déposée.
4.5.11
temps actif
temps pendant lequel le circuit de mesurage des impulsions est disponible pour détecter des photons X
Note 1 à l’article: Voir temps mort (4.5.6).
Note 2 à l’article: Le temps effectif est le temps réel d’analyse moins le temps mort. Le temps réel est le temps qui
serait mesuré par une horloge conventionnelle. Pour l’acquisition des rayons X, le temps réel dépasse toujours le
temps effectif.
4.5.12
compteur proportionnel
chambre remplie de gaz pour la détection de rayons X, dans laquelle l’énergie X est transférée à un
photoélectron qui suit ensuite une diffusion inélastique
Note 1 à l’article: Il existe une gamme de tensions de polarisation pour laquelle, si la tension de polarisation est
appliquée à un fil central de collecte, la charge collectée sera proportionnelle à l’énergie du photon.
4.5.13
distribution d’amplitude des impulsions
distribution statistique des impulsions de comptage produites par des photons de même énergie
capturés dans un compteur proportionnel
4.6
spectrométrie X
méthode selon laquelle un spectromètre X est utilisé pour mesurer la distribution de photons X en
énergie ou en longueur d’onde
4.6.1
pic caractéristique
composante localisée d’un spectre X ayant une plus grande intensité que le niveau général du fond et
associée à une espèce d’atome spécifique
Note 1 à l’article: Les pics caractéristiques sont produits suite à une séquence d’ionisation de la couche interne,
suivie de transitions électroniques entre les couches et d’une émission de rayonnement électromagnétique.
Note 2 à l’article: La largeur naturelle du pic en énergie est d’environ 1 eV à 3 eV.
4.6.2
détecteur
dispositif permettant de détecter un photon X et/ou de mesurer l’énergie de ce photon
Note 1 à l’article: Les détecteurs de rayons X sont, par exemple, des compteurs proportionnels remplis de gaz, des
microcalorimètres, des détecteurs au germanium intrinsèque (Ge), des détecteurs de silicium dopé au lithium
(Si-Li) ou des détecteurs SDD.
4.6.3
artefacts de détecteur
composante introduite dans le spectre X suite au processus de détection (par exemple pic de coïncidence,
pic d’échappement, pic d’ordre supérieur) et non liée au spectre X vrai tel qu’il est émis par l’échantillon
4.6.4
spectromètre X à sélection d’énergie
EDS
dispositif permettant de déterminer l’intensité des rayons X en fonction de l’énergie du rayonnement
4.6.4.1
zone morte
région du cristal semi-conducteur immédiatement en dessous de l’électrode de surface, qui présente une
efficacité réduite par rapport à l’intérieur du cristal, pour collecter la charge déposée, lorsqu’un photon
X est absorbé
4.6.4.2
pic d’artefact
pic d’un spectre X à sélection d’énergie causé par des processus tels que la coïncidence d’impulsions
(ou somme d’impulsions) et la perte de rayonnement provenant du détecteur (par exemple pic
d’échappement Si)
4.6.4.3
pic de fluorescence interne
toute composante spectrale produite par fluorescence à l’intérieur du détecteur, plutôt que par
l’excitation de l’échantillon
EXEMPLE Dans un spectromètre EDS à semi-conducteur dans lequel un photon est absorbé de manière
photoélectrique dans la zone morte juste en dessous de la face avant de l’électrode, l’émission du photon
caractéristique du matériau détecteur (par exemple Si) apparaît comme une contribution au spectre mesuré en
tant que source équivalente de faible intensité se produisant en apparence sur l’échantillon.
4.6.4.4
microcalorimètre
bolomètre
spectromètre à sélection d’énergie qui fonctionne sur la base de l’absorption photoélectrique et de
la thermalisation ultérieure de l’énergie du photon suivie par la thermométrie, afin de déterminer la
hausse de température dans l’absorbeur
4.6.4.5
EDS à semi-conducteur
spectromètre à sélection d’énergie qui fonctionne sur la base de l’absorption photoélectrique dans
un cristal semi-conducteur et de la diffusion inélastique du photoélectron conduisant à la création de
charges et au mesurage
4.6.4.5.1
EDS Ge intrinsèque
spectromètre à sélection d’énergie qui fonctionne par absorption photoélectrique dans un cristal de
Ge intrinsèque
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4.6.4.5.2
EDS à détecteur de silicium dopé au lithium
EDS Si-Li
spectromètre à sélection d’énergie qui fonctionne par absorption photoélectrique dans un cristal de
Si dopé au Li
4.6.4.5.3
EDS SDD
spectromètre à sélection d’énergie qui fonctionne par absorption photoélectrique dans un cristal de
silicium dans lequel des champs électriques transversaux par rapport à la surface du détecteur sont
utilisés pour guider les électrons dans l’anode réceptrice
4.6.4.6
pic d’échappement
pic de fuite
pic qui apparaît suite à la perte d’énergie du photon incident par fluorescence du matériau du détecteur
comme le Si dans un détecteur EDS Si-Li
Note 1 à l’article: Les pics d’échappement apparaissent à un niveau d’énergie égal à celui du pic caractéristique incident
moins l’énergie de la(des) raie(s) X émise(s) par l’(les)élément(s) présent(s) dans le détecteur (1,74 keV pour Si).
Note 2 à l’article: Des pics d’échappement ne peuvent pas apparaître en dessous du niveau d’énergie d’ionisation
du matériau. Ainsi, dans un détecteur EDS Si-Li, un pic d’échappement Si du K ne se produit pas à des niveaux
d’énergie inférieurs à 1,84 keV.
4.6.4.7
pic somme
pic d’artefact provenant de coïncidence d’impulsions, qui se produisent dans le circuit de contrôle des
empilements par défaut de séparation de paires
Note 1 à l’article: Les pics somme apparaissent à des niveaux d’énergie correspondant à la somme des énergies des
photons qui arrivent sur le détecteur simultanément.
4.6.4.8
pic système
pic d’artefact dans un spectre EDS, causé par l’excitation de la platine porte-échantillon, du collimateur,
de la chambre et de la pièce polaire distante de l’échantillon, due à une partie non focalisée du faisceau
incident primaire et/ou de la rétrodiffusion à partir de l’échantillon
4.6.5
spectrométrie X à sélection d’énergie
EDX
EDS
forme de spectrométrie X dans laquelle l’énergie des photons individuels est mesurée et utilisée pour
établir un histogramme numérique représentant la distribution des rayons X avec l’énergie
4.6.6
résolution en énergie
largeur d’un pic telle que mesurée par un spectromètre X à sélection d’énergie et exprimée comme la
largeur à mi-hauteur du pic
Note 1 à l’article: Pour l’EDS, la résolution en énergie est généralement spécifiée comme étant la valeur de la raie
Mn Kα (5,890 keV) car cette raie peut être obtenue à partir d’une source radioactive contenant l’isotope 55 du fer.
Note 2 à l’article: Les spectromètres qui permettent la détection de rayons X inférieurs à 1 keV doivent également
être définis par les FWHM des raies C-K et F-K. Les FWHM spécifiées doivent être une limite supérieure.
Note 3 à l’article: Adapté de l’ISO 15632:2012.
4.6.7
largeur à mi-hauteur
FWHM
mesure de la largeur d’un pic X dans laquelle on a tout d’abord supprimé le fond pour révéler le profil
complet du pic
Note 1 à l’article: L’intensité maximale du pic est déterminée en ajustant l’ensemble des canaux du pic et la largeur
est déterminée à la moitié de la hauteur du pic.
4.6.8
spectre à l’intérieur du trou
spectre X mesuré lorsque le faisceau est placé à l’intérieur d’une cage de Faraday à l’endroit où l’échantillon
subirait normalement l’analyse
Note 1 à l’article: Ce mode opératoire est utilisé pour déterminer l’étendue du rayonnement parasite dans un
instrument à faisceau d’électrons.
4.6.9
pic interférent
pic composite dont l’intensité est due à plus d’un pic X caractéristique
4.6.10
largeur naturelle de raie
largeur naturelle de pic
largeur finie d’un pic X caractéristique qui est une conséquence, selon le principe d’incertitude de
Heisenberg, de la durée de vie finie dt de l
...














Questions, Comments and Discussion
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