IEC 62024-1:2002

NORME CEI
INTERNATIONALE IEC
62024-1
INTERNATIONAL
Première édition
STANDARD
First edition
2002-05
Composants inductifs à haute fréquence –
Caractéristiques électriques et méthodes
de mesure –
Partie 1:
Inductance pastille de l'ordre du nanohenry
High frequency inductive components –
Electrical characteristics and measuring
methods –
Part 1:
Nanohenry range chip inductor
Numéro de référence
Reference number
CEI/IEC 62024-1:2002
Numérotation des publications Publication numbering

Depuis le 1er janvier 1997, les publications de la CEI As from 1 January 1997 all IEC publications are

sont numérotées à partir de 60000. Ainsi, la CEI 34-1 issued with a designation in the 60000 series. For

devient la CEI 60034-1. example, IEC 34-1 is now referred to as IEC 60034-1.

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exemple, les numéros d’édition 1.0, 1.1 et 1.2 indiquent and 1.2 refer, respectively, to the base publication,
respectivement la publication de base, la publication de the base publication incorporating amendment 1 and
base incorporant l’amendement 1, et la publication de the base publication incorporating amendments 1
base incorporant les amendements 1 et 2. and 2.
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cette publication, y compris sa validité, sont dispo- relating to this publication, including its validity, is
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(voir ci-dessous) en plus des nouvelles éditions, (see below) in addition to new editions, amendments
amendements et corrigenda. Des informations sur les and corrigenda. Information on the subjects under
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par le comité d’études qui a élaboré cette publication, technical committee which has prepared this
ainsi que la liste des publications parues, sont publication, as well as the list of publications issued,
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comprenant des recherches textuelles, par comité technical committees and date of publication. On-
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• IEC Just Published
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.
NORME CEI
INTERNATIONALE IEC
62024-1
INTERNATIONAL
Première édition
STANDARD
First edition
2002-05
Composants inductifs à haute fréquence –
Caractéristiques électriques et méthodes
de mesure –
Partie 1:
Inductance pastille de l'ordre du nanohenry
High frequency inductive components –
Electrical characteristics and measuring
methods –
Part 1:
Nanohenry range chip inductor
 IEC 2002 Droits de reproduction réservés  Copyright - all rights reserved
Aucune partie de cette publication ne peut être reproduite ni No part of this publication may be reproduced or utilized in any
utilisée sous quelque forme que ce soit et par aucun procédé, form or by any means, electronic or mechanical, including
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Commission Electrotechnique Internationale
International Electrotechnical Commission
Международная Электротехническая Комиссия
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– 2 – 62024-1  CEI:2002
COMMISSION ÉLECTROTECHNIQUE INTERNATIONALE

____________
COMPOSANTS INDUCTIFS À HAUTE FRÉQUENCE –

CARACTÉRISTIQUES ÉLECTRIQUES ET MÉTHODES DE MESURE –

Partie 1: Inductance pastille de l'ordre du nanohenry

AVANT-PROPOS
1) La CEI (Commission Electrotechnique Internationale) est une organisation mondiale de normalisation
composée de l'ensemble des comités électrotechniques nationaux (Comités nationaux de la CEI). La CEI a
pour objet de favoriser la coopération internationale pour toutes les questions de normalisation dans les
domaines de l'électricité et de l'électronique. A cet effet, la CEI, entre autres activités, publie des Normes
internationales. Leur élaboration est confiée à des comités d'études, aux travaux desquels tout Comité national
intéressé par le sujet traité peut participer. Les organisations internationales, gouvernementales et non
gouvernementales, en liaison avec la CEI, participent également aux travaux. La CEI collabore étroitement
avec l'Organisation Internationale de Normalisation (ISO), selon des conditions fixées par accord entre les
deux organisations.
2) Les décisions ou accords officiels de la CEI concernant les questions techniques représentent, dans la mesure
du possible un accord international sur les sujets étudiés, étant donné que les Comités nationaux intéressés
sont représentés dans chaque comité d’études.
3) Les documents produits se présentent sous la forme de recommandations internationales. Ils sont publiés
comme normes, spécifications techniques, rapports techniques ou guides et agréés comme tels par les
Comités nationaux.
4) Dans le but d'encourager l'unification internationale, les Comités nationaux de la CEI s'engagent à appliquer de
façon transparente, dans toute la mesure possible, les Normes internationales de la CEI dans leurs normes
nationales et régionales. Toute divergence entre la norme de la CEI et la norme nationale ou régionale
correspondante doit être indiquée en termes clairs dans cette dernière.
5) La CEI n’a fixé aucune procédure concernant le marquage comme indication d’approbation et sa responsabilité
n’est pas engagée quand un matériel est déclaré conforme à l’une de ses normes.
6) L’attention est attirée sur le fait que certains des éléments de la présente Norme internationale peuvent faire
l’objet de droits de propriété intellectuelle ou de droits analogues. La CEI ne saurait être tenue pour
responsable de ne pas avoir identifié de tels droits de propriété et de ne pas avoir signalé leur existence.
La Norme internationale CEI 62024-1 a été établie par le comité d'études 51 de la CEI:
Composants magnétiques et ferrites.
Le texte de cette norme est issu des documents suivants:
FDIS Rapport de vote
51/658/FDIS 51/675/RVD
Le rapport de vote indiqué dans le tableau ci-dessus donne toute information sur le vote ayant
abouti à l'approbation de cette norme.
Cette publication a été rédigée selon les directives ISO/CEI, Partie 3.
L’annexe A fait partie intégrante de cette norme.
Le comité a décidé que la présente publication restait valable jusqu'en 2006. A cette date,
selon la décision du comité, la publication sera:
• reconduite;
• annulée;
• remplacée par une édition révisée, ou
• modifiée.
62024-1  IEC:2002 – 3 –
INTERNATIONAL ELECTROTECHNICAL COMMISSION

____________
HIGH FREQUENCY INDUCTIVE COMPONENTS –

ELECTRICAL CHARACTERISTICS AND MEASURING METHODS –

Part 1: Nanohenry range chip inductor

FOREWORD
1) The IEC (International Electrotechnical Commission) is a worldwide organization for standardization comprising
all national electrotechnical committees (IEC National Committees). The object of the IEC is to promote
international co-operation on all questions concerning standardization in the electrical and electronic fields. To
this end and in addition to other activities, the IEC publishes International Standards. Their preparation is
entrusted to technical committees; any IEC National Committee interested in the subject dealt with may
participate in this preparatory work. International, governmental and non-governmental organizations liaising
with the IEC also participate in this preparation. The IEC collaborates closely with the International
Organization for Standardization (ISO) in accordance with conditions determined by agreement between the
two organizations.
2) The formal decisions or agreements of the IEC on technical matters express, as nearly as possible, an
international consensus of opinion on the relevant subjects since each technical committee has representation
from all interested National Committees.
3) The documents produced have the form of recommendations for international use and are published in the form
of standards, technical specifications, technical reports or guides and they are accepted by the National
Committees in that sense.
4) In order to promote international unification, IEC National Committees undertake to apply IEC International
Standards transparently to the maximum extent possible in their national and regional standards. Any
divergence between the IEC Standard and the corresponding national or regional standard shall be clearly
indicated in the latter.
5) The IEC provides no marking procedure to indicate its approval and cannot be rendered responsible for any
equipment declared to be in conformity with one of its standards.
6) Attention is drawn to the possibility that some of the elements of this International Standard may be the subject
of patent rights. The IEC shall not be held responsible for identifying any or all such patent rights.
International Standard IEC 62024-1 has been prepared by IEC technical committee 51:
Magnetic components and ferrite materials.
The text of this standard is based on the following documents:
FDIS Report on voting
51/658/FDIS 51/675/RVD
Full information on the voting for the approval of this standard can be found in the report on
voting indicated in the above table.
This publication has been drafted in accordance with the ISO/IEC Directives, Part 3.
Annex A forms an integral part of this standard.
The committee has decided that this publication remains valid until 2006. At this date, in
accordance with the committee’s decision, the publication will be
• reconfirmed;
• withdrawn;
• replaced by a revised edition, or
• amended.
– 4 – 62024-1  CEI:2002
COMPOSANTS INDUCTIFS À HAUTE FRÉQUENCE –

CARACTÉRISTIQUES ÉLECTRIQUES ET MÉTHODES DE MESURE –

Partie 1: Inductance pastille de l'ordre du nanohenry

1 Domaine d'application
La présente Norme internationale spécifie les caractéristiques électriques et les méthodes de
mesure pour l'inductance pastille de l'ordre du nanohenry qui est normalement utilisée dans la
gamme de hautes fréquences (supérieure à 100 kHz).
2 Références normatives
Les documents de référence suivants sont indispensables pour l'application du présent
document. Pour les références datées, seule l'édition citée s'applique. Pour les références
non datées, la dernière édition du document de référence s'applique (y compris les éventuels
amendements).
CEI 60249-1:1982, Matériaux de base pour circuits imprimés – Première partie: Méthodes d'essai
ISO 6353-3:1987, Réactifs pour analyse chimique - Partie 3: Spécifications – Deuxième série
ISO 9453:1990, Alliages de brasage tendre – Composition chimique et formes
3 Inductance, facteur Q et impédance
3.1 Inductance
L'inductance d'une bobine est mesurée par la méthode du courant/tension vectorielle.

62024-1  IEC:2002 – 5 –
HIGH FREQUENCY INDUCTIVE COMPONENTS –

ELECTRICAL CHARACTERISTICS AND MEASURING METHODS –

Part 1: Nanohenry range chip inductor

1 Scope
This International Standard specifies electrical characteristics and measuring methods for the
nanohenry range chip inductor that is normally used in high frequency (over 100 kHz) range.
2 Normative references
The following referenced documents are indispensable for the application of this document.
For dated references, only the edition cited applies. For undated references, the latest edition
of the referenced document (including any amendments) applies.
IEC 60249-1:1982, Base materials for printed circuits – Part 1: Test methods
ISO 6353-3:1987, Reagents for chemical analysis – Part 3: Specifications – Second series
ISO 9453:1990, Soft solder alloys – Chemical compositions and forms
3 Inductance, Q-factor and impedance
3.1 Inductance
The inductance of an inductor is measured by the vector voltage/current method.

– 6 – 62024-1  CEI:2002
3.1.1 Circuit de mesure
Ev
R
L
x
R
g L
s
C
d
R
Ev s
G
IEC  1228/02
Légende
R résistance de source (50 Ω)
g
R résistance
L inductance en essai
x
C capacité distribuée d'une bobine en essai
d
L inductance série d'une bobine en essai
s
R résistance série d'une bobine en essai
s
signal de référence de phase
Ev ,Ev voltmètre vectoriel
1 2
G générateur de signal
Figure 1 – Exemple de circuit pour la méthode du courant/tension vectorielle
3.1.2 Montage de la bobine au support d'essai
La bobine d'inductance doit être mesurée dans un support d'essai spécifié dans la norme
correspondante. Si aucun support n'est spécifié, un des supports d'essai suivants A ou B doit
être utilisé. Le support utilisé doit être consigné.
3.1.2.1 Support A
La forme et les dimensions du support A doivent être conformes à l'illustration de la figure 2.

Structure de connexion
l
au circuit de mesure
Longueur électrique
Electrode extrerne
Electrode centrale
d
Bobine en essai Matériau diélectrique
IEC  1229/02
Figure 2 – Support A
62024-1  IEC:2002 – 7 –
3.1.1 Measurement circuit
Ev
R
L
x
R
g L
s
C
d
R
Ev s
G
IEC  1228/02
Key
R source resistance (50 Ω)
g
Rresistor
L inductor under test
x
C distributed capacitance of inductor under test
d
L series inductance of inductor under test
s
R series resistance of inductor under test
s
phase reference signal
Ev ,Ev vector voltmeter
1 2
G signal generator
Figure 1 – Example of circuit for the vector voltage/current method
3.1.2 Mounting of the inductor to the test fixture
The inductor shall be measured in a test fixture as specified in the relevant standard. If no
fixture is specified, one of the following test fixtures A or B shall be used. The fixture used
shall be reported.
3.1.2.1 Fixture A
The shape and dimensions of fixture A shall be as shown in figure 2.

Structure of connection to
l
the measurement circuit
Electrical length
External electrode
Central electrode
d
Inductor under test
Dielectric material
IEC  1229/02
Figure 2 – Fixture A
– 8 – 62024-1  CEI:2002
Tableau 1 – Dimensions de l et d
Dimensions en millimètres
Taille de la bobine d'inductance
ld
en essai
1608 1,6 0,95
1005 1,0 0,60
0603 0,6 0,36
Les électrodes du support d'essai doivent être en contact avec les électrodes de la bobine

d'inductance en essai par une force mécanique fournie par une méthode appropriée. Cette
force doit être choisie de manière à fournir une stabilité de mesure satisfaisante sans
influencer les caractéristiques de la bobine d'inductance. La force de l'électrode doit être
spécifiée. La structure entre le circuit de mesure et le support d'essai doit maintenir une
impédance caractéristique aussi proche que possible de 50 Ω.
3.1.2.2 Support B
Le support d'essai B illustré à la figure 3 doit être utilisé.
Electrode externe
Bobine en essai
Electrode centrale
d Matériau diélectrique
Structure de connexion
au circuit de mesure
IEC  1230/02
Figure 3 – Support B
Les électrodes du support d'essai doivent être en contact avec les électrodes de la bobine
d'inductance en essai par une force mécanique fournie par une méthode appropriée. Cette
force doit être choisie de manière à fournir une stabilité de mesure satisfaisante sans
influencer les caractéristiques de la bobine d'inductance. La force de l'électrode doit être
spécifiée.
La structure entre le circuit de mesure et le support d'essai doit maintenir une impédance
caractéristique aussi proche que possible de 50 Ω.
La dimension d doit être spécifiée entre les parties concernées.

62024-1  IEC:2002 – 9 –
Table 1 – Dimensions of l and d
Dimensions in millimetres
Size of inductor under test
ld
1608 1,6 0,95
1005 1,0 0,60
0603 0,6 0,36
The electrodes of the test fixture shall be in contact with the electrodes of the inductor under

test by mechanical force provided by an appropriate method. This force shall be chosen so as

to provide satisfactory measurement stability without influencing the characteristics of the
inductor. The electrode force shall be specified. The structure between the measurement
circuit and test fixture shall maintain a characteristic impedance as near as possible to 50 Ω.
3.1.2.2 Fixture B
The test fixture B as shown in figure 3 shall be used.
External electrode
Inductor under test
Central electrode
d Dielectric material
Structure of connection with
measurement circuit
IEC  1230/02
Figure 3 – Fixture B
The electrodes of the test fixture shall be in contact with the electrodes of the inductor under
test by mechanical force provided by an appropriate method. This force shall be chosen so as
to provide satisfactory measurement stability without influencing the characteristics of the
inductor. The electrode force shall be specified.
The structure between the measurement circuit and test fixture shall maintain a characteristic
impedance as near as possible to 50 Ω.
Dimension d shall be specified between the parties concerned.

– 10 – 62024-1  CEI:2002
3.1.3 Méthode de mesure et calcul

L'inductance L de la bobine L est définie par la somme vectorielle des réactances
x x
provoquées par L et C , voir la figure 1. La fréquence f du signal de sortie du générateur de
s d
signal doit être fixée à une fréquence spécifiée séparément. La bobine d'inductance en essai

doit être connectée au circuit de mesure en utilisant le support d'essai décrit ci-dessus. La

tension vectorielle E et E doit être mesurée par les dispositifs de mesure de tension
1 2
vectorielle Ev et Ev , respectivement. L'inductance L doit être calculée par la formule
1 2 x
suivante:
 
E
Im R
 
E
 2 
=
L
x
ω
où
L est l'inductance de la bobine en essai;
x
Im est la partie imaginaire de la valeur complexe;
R est la résistance de la résistance;
E est la valeur indiquée sur le voltmètre vectoriel Ev ;
1 1
E est la valeur indiquée sur le voltmètre vectoriel Ev ;
2 2
ω est la fréquence angulaire 2π f.
3.1.4 Notes sur la mesure
La longueur électrique du support d'essai doit être compensée par une méthode appropriée
suivie par une compensation de court-circuit ouvert. Si une longueur électrique qui n'est pas
couramment acceptée est utilisée, il est nécessaire de le spécifier. La compensation de court-
circuit ouvert doit être réalisée par la formule suivante:
Z − B
m c
Z = A
x c
1 − Z C
m c
où
Z est la valeur de mesure d'impédance après compensation;
x
Z est la valeur de mesure d'impédance avant compensation.
m
A = 1 + j0
c
Z − (1 − Y Z )Z − Z Y Z
sm om sm ss sm os ss
B =
c
1 − Y Z Y Z
om sm os ss
Y − (1 − Y Z )Y − Y Y Z
om om sm os om os ss
C =
c
1 − Y Z Y Z
om sm os ss
où
Z
est la valeur de mesure d'impédance du dispositif de court-circuit;
sm
Z est l'inductance du dispositif de court-circuit définie en 3.1.4.1;
ss
Y est la valeur de mesure d'admittance du support en l'absence du dispositif d'essai;
om
Y est la valeur de mesure d'admittance du support d'essai définie en 3.1.4.2.
os
62024-1  IEC:2002 – 11 –
3.1.3 Measurement method and calculation

Inductance L of the inductor L is defined by the vector sum of reactances caused by L and
x x s
C , see figure 1. The frequency f of the signal generator output signal shall be set to a
d
frequency specified separately. The inductor under test shall be connected to the

measurement circuit by using the test fixture as described above. Vector voltage E and E
1 2
shall be measured by vector voltage meters Ev and Ev , respectively. The inductance L
1 2 x
shall be calculated by the following formula:

 E 
Im R
 
E
 2 
L =
x
ω
where
L is the inductance of inductor under test;
x
Im is the imaginary part of the complex value;
R is the resistance of resistor;
E is the value indicated on vector voltmeter Ev ;
1 1
E is the value indicated on vector voltmeter Ev ;
2 2
ω is the angular frequency 2π f.
3.1.4 Notes on measurement
The electrical length of the test fixture shall be compensated by an appropriate method
followed by open-short compensation. If an electrical length that is not commonly accepted is
used, it shall be specified. Open-short compensation shall be performed by the following
formula.
Z − B
m c
Z = A
x c
1 − Z C
m c
where
Z impedance measurement value after compensation;
x
Z impedance measurement value before compensation.
m
A = 1 + j0
c
Z − (1 − Y Z )Z − Z Y Z
sm om sm ss sm os ss
B =
c
1 − Y Z Y Z
om sm os ss
Y − (1 − Y Z )Y − Y Y Z
om om sm os om os ss
C =
c
1 − Y Z Y Z
om sm os ss
where
Z is the impedance measurement value of short device;
sm
Z is the short device inductance as defined in 3.1.4.1;
ss
Y is the admittance measurement value of the fixture with test device absent;
om
Y is the admittance measurement value of the test fixture as defined in 3.1.4.2.
os
– 12 – 62024-1  CEI:2002
3.1.4.1 Compensation de court-circuit

Pour le support d'essai A, la dimension et la forme du dispositif de court-circuit applicables

sont illustrées à la figure 4 et au tableau 2. L'inductance du dispositif de court-circuit

appropriée doit être sélectionnée à partir du tableau 2 selon la dimension de la bobine

d'inductance en essai. L'inductance du dispositif de court-circuit sélectionné doit être utilisée
comme une valeur de compensation.

d
Cuivre plaqué or ou métal
équivalent plaqué or
l
IEC  1231/02
Figure 4 – Forme du dispositif de court-circuit
Tableau 2 – Inductances et dimensions du dispositif de court-circuit
Taille de la bobine Valeur d'inductance
l d
en essai
nH
mm mm
1608 1,6 0,95 0,43
1005 1,0 0,60 0,27
0603 0,6 0,36 0,16
Si une valeur d'inductance autre que celle qui est définie au tableau 2 est utilisée pour le
support d'essai A, la valeur employée doit être spécifiée. Pour le support d'essai B, les
valeurs de la dimension du dispositif de court-circuit, de la forme et de l'inductance doivent
être spécifiées.
3.1.4.2 Compensation ouverte
La compensation ouverte pour le support d'essai A doit être réalisée alors que les électrodes
du support d'essai sont éloignées les unes des autres à la même distance qu'avec la bobine
en essai montée dans le support. La valeur ainsi obtenue est utilisée en tant qu'admittance
Y , sauf spécification contraire.
os
La compensation ouverte pour le support d'essai B doit être réalisée sans le montage de la
bobine d'inductance. La valeur ainsi obtenue est utilisée en tant qu'admittance Y , sauf
os
spécification contraire.
3.2 Facteur de qualité
3.2.1 Méthode de mesure
Le Q de la bobine d'inductance doit être mesuré par la méthode du courant/tension vectorielle.
3.2.2 Circuit de mesure
Le circuit de mesure est conforme à l'illustration de la figure 1.
3.2.3 Montage de la bobine d'inductance
Le montage de la bobine d'inductance est décrit en 3.1.2.

62024-1  IEC:2002 – 13 –
3.1.4.1 Short compensation
For test fixture A, the applicable short device dimension and shape are as shown in figure 4

and table 2. The appropriate short device inductance shall be selected from table 2 depending

on the dimension of the inductor under test. The inductance of the selected short device shall

be used as a compensation value.

d
Gold-plated copper or
gold-plated equivalent metal
l
IEC  1231/02
Figure 4 – Short device shape
Table 2 – Short device dimensions and inductances
Size of inductor Inductance value
l d
under test nH
mm mm
1608 1,6 0,95 0,43
1005 1,0 0,60 0,27
0603 0,6 0,36 0,16
If an inductance value other than that defined in table 2 is used for test fixture A, the
employed value shall be specified. For test fixture B, short device dimension, shape and
inductance values shall be specified.
3.1.4.2 Open compensation
Open compensation for test fixture A shall be performed with test fixture electrodes at the
same distance apart from each other as with the inductor under test mounted in the fixture.
The value thus obtained is used as the admittance Y , unless otherwise specified.
os
Open compensation for test fixture B shall be performed without mounting the inductor. The
value thus obtained is used as the admittance Y unless otherwise specified.
os
3.2 Quality factor
3.2.1 Measurement method
The Q of the inductor shall be measured by the vector voltage/current method.
3.2.2 Measurement circuit
The measurement circuit is as shown in figure 1.
3.2.3 Mounting of the inductor
Mounting of the inductor is described in 3.1.2.

– 14 – 62024-1  CEI:2002
3.2.4 Méthodes de mesure et calcul

La fréquence du signal de sortie (figure 1) du générateur de signal doit être réglée à une

fréquence spécif
...